specifikationer

-------------------
Arbejdstimer
Timer under strøm
Stat godt
Efter lokale normer ---------
Status synlig

Beskrivelse

RTP ANNEALSYS AS-Mikroovn fra 2017 + pumpe + computer

Perfekt stand. Dato for 2017.
Leveres med:
- Agilent IDP3A01 vakuumpumpe og evakueringspumpe
- styre computer, software og brugerkode.
- brugervejledning



AS-Micro er en kompakt tre-tommer termisk bordprocessor med vakuumkapacitet dedikeret til forskningsapplikationer. Det kan behandle substrater fra et par kvadratmillimeter op til 3 tommer i diameter eller kvadratisk. Valgfri susceptorer er tilgængelige til at holde små prøver og til at behandle substrater med lav infrarød absorption.

Kvartsrørsbehandlingskammeret med rustfri stålflanger og en rørformet ovn med infrarøde halogenlamper tillader behandling op til 1250°C med meget hurtige rampehastigheder (> 250°C/s). Den avancerede temperaturregulator sikrer præcis temperaturstyring.

Horisontal bevægelseslåge med kvartsbakke giver nem adgang til wafer ilægning og aflæsning og termoelementinstallation.

Funktioner
Ovn tilbyder den højeste rampehastighed op til 250°C/s for 2" wafere.
Temperaturområde: RT til 1250°C
Rampehastighed op til 250°C/s på siliciumsubstrat med en diameter på 2 tommer, 200°C/s på 3 tommers underlag.
Mulighed for gasblanding med massestrømsregulatorer
Vakuumområde: Atm til 10-2 Torr (10-6 Torr med valgfri turbopumpe)
Termoelement temperaturkontrol med hurtig digital PID temperaturregulator
Fuld pc-kontrol med Windows-kompatibel software

til elektrokemi og nanomaterialer halvleder / halvleder / wafer laboratorium

Bemærk venligst, at denne beskrivelse muligvis er blevet oversat automatisk. Kontakt os for yderligere information. Oplysningerne i denne rubrikannonce er kun vejledende. Exapro anbefaler at tjekke detaljerne med sælgeren inden et køb


Klienttype Forhandler
Aktiv siden 2015
Tilbud online 59
Sidste aktivitet 30. december 2024

Beskrivelse

RTP ANNEALSYS AS-Mikroovn fra 2017 + pumpe + computer

Perfekt stand. Dato for 2017.
Leveres med:
- Agilent IDP3A01 vakuumpumpe og evakueringspumpe
- styre computer, software og brugerkode.
- brugervejledning



AS-Micro er en kompakt tre-tommer termisk bordprocessor med vakuumkapacitet dedikeret til forskningsapplikationer. Det kan behandle substrater fra et par kvadratmillimeter op til 3 tommer i diameter eller kvadratisk. Valgfri susceptorer er tilgængelige til at holde små prøver og til at behandle substrater med lav infrarød absorption.

Kvartsrørsbehandlingskammeret med rustfri stålflanger og en rørformet ovn med infrarøde halogenlamper tillader behandling op til 1250°C med meget hurtige rampehastigheder (> 250°C/s). Den avancerede temperaturregulator sikrer præcis temperaturstyring.

Horisontal bevægelseslåge med kvartsbakke giver nem adgang til wafer ilægning og aflæsning og termoelementinstallation.

Funktioner
Ovn tilbyder den højeste rampehastighed op til 250°C/s for 2" wafere.
Temperaturområde: RT til 1250°C
Rampehastighed op til 250°C/s på siliciumsubstrat med en diameter på 2 tommer, 200°C/s på 3 tommers underlag.
Mulighed for gasblanding med massestrømsregulatorer
Vakuumområde: Atm til 10-2 Torr (10-6 Torr med valgfri turbopumpe)
Termoelement temperaturkontrol med hurtig digital PID temperaturregulator
Fuld pc-kontrol med Windows-kompatibel software

til elektrokemi og nanomaterialer halvleder / halvleder / wafer laboratorium

Bemærk venligst, at denne beskrivelse muligvis er blevet oversat automatisk. Kontakt os for yderligere information. Oplysningerne i denne rubrikannonce er kun vejledende. Exapro anbefaler at tjekke detaljerne med sælgeren inden et køb


Specifikationer

-------------------
Arbejdstimer
Timer under strøm
Stat godt
Efter lokale normer ---------
Status synlig

Om denne sælger

Klienttype Forhandler
Aktiv siden 2015
Tilbud online 59
Sidste aktivitet 30. december 2024

Her er et udvalg af lignende maskiner

ANNEALSYS AS-Micro