ANNEALSYS AS-Micro Sondere Halbleiter Maschine Topseller

17.000 €

Angebot stellen

Hersteller	ANNEALSYS
Typ	AS-Micro
Baujahr	2017
Standort	Frankreich
Kategorie	Halbleiter - Sonstige
Produkt ID	P230323112
Sprache	ANNEALSYS AS-Micro Polovodičový stroj ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Sondere Halbleiter Maschine ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Semiconductor machine Máquina semiconductor ANNEALSYS AS-Micro Four RTP ANNEALSYS AS-Micro de 2017 + pompe + ordinateur ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Macchina di semiconduttori ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Maszyna do półprzewodników ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Оборудование для полупроводников ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Yarı İletken Makinası ANNEALSYS AS-Micro

Einzelheiten
Bezüglich der/die Besitzer /in

Detaillierte Informationen

-------------------
Betriebsstunden
Einschaltstunden
Zustand	gut
CE-Norm	---------
Status	zu besichtigen

Beschreibung

RTP ANNEALSYS AS-Mikroofen von 2017 + Pumpe + Computer

Perfekter Zustand. Datum 2017.
Geliefert mit:
- Agilent IDP3A01 Vakuumpumpe und Evakuierungspumpe
- Computer, Software und Benutzercode steuern.
- Handbuch

Der AS-Micro ist ein kompakter thermischer 3-Zoll-Tischprozessor mit Vakuumfähigkeit für Forschungsanwendungen. Es kann Substrate von wenigen Quadratmillimetern bis zu 3 Zoll Durchmesser oder Quadrat verarbeiten. Optionale Suszeptoren sind erhältlich, um kleine Proben aufzunehmen und Substrate mit geringer Infrarotabsorption zu verarbeiten.

Die Quarzrohr-Prozesskammer mit Edelstahlflanschen und ein Rohrofen mit Infrarot-Halogenlampen ermöglichen die Verarbeitung bis zu 1250 °C mit sehr schnellen Anstiegsraten (> 250 °C/s). Der hochmoderne Temperaturregler sorgt für eine präzise Temperaturregelung.

Horizontale Bewegungstür mit Quarzschale bietet einfachen Zugang zum Be- und Entladen von Wafern und zur Installation von Thermoelementen.

Merkmale
Der Ofen bietet die höchste Anstiegsrate von bis zu 250 °C/s für 2-Zoll-Wafer.
Temperaturbereich: RT bis 1250°C
Anstiegsrate bis zu 250 °C/s auf Siliziumsubstrat mit 2 Zoll Durchmesser, 200 °C/s auf 3 Zoll Substrat.
Gasmischfähigkeit mit Massendurchflussreglern
Vakuumbereich: atm bis 10-2 Torr (10-6 Torr mit optionaler Turbopumpe)
Thermoelement-Temperaturregelung mit schnellem digitalen PID-Temperaturregler
Vollständige PC-Steuerung mit Windows-kompatibler Software

für Elektrochemie und Nanomaterialien Halbleiter- / Halbleiter- / Waferlabor

Bitte beachten Sie, dass diese Beschreibung automatich übersetzt wurde. Für weitere Informationen stehen wir Ihnen gerne zur Verfügung. Die Angaben in dieser Anzeige sind unverbindlich. Wir empfehlen, die Details vor einem Kauf mit dem Verkäufer zu überprüfen.

Art von Kunde	Händler
1. Registrierung	2015
Online Angeboten	59
Letzte log in	21. Dezember 2024

Beschreibung

Detaillierte Informationen

-------------------
Betriebsstunden
Einschaltstunden
Zustand	gut
CE-Norm	---------
Status	zu besichtigen

Bezüglich der/die Besitzer /in

Art von Kunde	Händler
1. Registrierung	2015
Online Angeboten	59
Letzte log in	21. Dezember 2024

ANNEALSYS AS-Micro Sondere Halbleiter Maschine Topseller

Detaillierte Informationen

Beschreibung

Beschreibung

Detaillierte Informationen

Bezüglich der/die Besitzer /in

Hier ist eine Auswahl ähnlicher Maschinen

Kategorien

Menü

ANNEALSYS AS-Micro Sondere Halbleiter Maschine