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EDWARDS IXH 6045H P241116087
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EDWARDS IXH 6045H Pumpe Verifizierter Verkäufer

12.500 €

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Hersteller EDWARDS
Typ IXH 6045H
Baujahr
Standort Indien IN
Kategorie Pumpen
Produkt ID P241116087
Sprache
bg индустриална помпа EDWARDS IXH 6045H
cs Pumpa EDWARDS IXH 6045H
da EDWARDS IXH 6045H industriel pumpe
de EDWARDS IXH 6045H Pumpe
el βιομηχανική αντλία EDWARDS IXH 6045H
en EDWARDS IXH 6045H Dry Vacuum Pump
es Bomba EDWARDS IXH 6045H
fr pompe industrielle EDWARDS IXH 6045H
hr industrijska pumpa EDWARDS IXH 6045H
hu EDWARDS IXH 6045H ipari szivattyú
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lt pramoninis siurblys EDWARDS IXH 6045H
nl EDWARDS IXH 6045H industriële pomp
pl Pompa EDWARDS IXH 6045H
pt bomba industrial EDWARDS IXH 6045H
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ru EDWARDS IXH 6045H Насосно-трубопроводная система
sr industrijska pumpa EDWARDS IXH 6045H
sv EDWARDS IXH 6045H industriell pump
tr Endüstriyel pompa EDWARDS IXH 6045H

Detaillierte Informationen

-------------------
Betriebsstunden
Einschaltstunden
Zustand wie besteht
CE-Norm ---------
Status

Beschreibung

iXH6045H Trockene Vakuumpumpe
Produktübersicht
Die trockene Vakuumpumpenserie iXH wurde speziell für anspruchsvolle Prozesse in der Halbleiterfertigung, bei Flachbildschirmen und Solaranwendungen entwickelt. Sie bietet reduzierte Betriebskosten mit 10 % weniger Energieverbrauch im Vergleich zu früheren Modellen. Die Pumpe verfügt über ein verbessertes Pulverhandling mit Gas Buster™-Technologie, einen weiten Betriebstemperaturbereich zur Minimierung der Ansammlung von Nebenprodukten und eine verbesserte Dichtungstechnologie, die die Lebensdauer der Pumpe verlängert und Leckagerisiken reduziert.

Spezifikationen
Modell: ACHD02123300XS
Spannung: 380-460V
Hochspannung: 6000V
Gas-Modul: Einzelmodus (44 sL/min Durchfluss)
Entlüftung: Standard ohne Rückschlagventil
Dichtungen: Standard
Pumpenmotor: 11 kW
Booster-Motor: 7,5 kW
Anwendungen
High-k- und Low-k-Anwendungen
SACVD-, LPCVD-, ALD-, TCO-, GaN- und EPI-Verfahren
CVD, PECVD und MOCVD
Strip/Bashing, Oxid-Ätzen, Metall-Ätzen und Implantatquelle
Technische Daten
Abmessungen:
Länge: 1080 mm
Breite: 517 mm
Höhe: 966 mm
Leistung:
Saugvermögen: 5000 - 5200 m³/h
Endvakuum: < 5 x 10-³ mbar
Maximaler Ansaugdruck: 1000 mbar
Kühlung:
Wasserdurchflussmenge: 12 l/min
Wasserversorgungsdruck: 6,9 bar (100 psig)
Wesentliche Merkmale
Hohe Wasserstoffpumpgeschwindigkeiten, ideal für fortschrittliche EPI- und Solarprozesse
Kompaktes Design mit geringerem Platzbedarf zur einfachen Integration in Fertigungsanlagen
Konformität mit UL-, CE- und S2-Normen
Diese Pumpe ist für anspruchsvolle Umgebungen optimiert, in denen verbesserte Prozessfähigkeit, Energieeffizienz und ein kompaktes Design entscheidend sind. Weitere Einzelheiten und Betriebsanleitungen finden Sie im vollständigen Produkthandbuch.

Bitte beachten Sie, dass diese Beschreibung automatich übersetzt wurde. Für weitere Informationen stehen wir Ihnen gerne zur Verfügung. Die Angaben in dieser Anzeige sind unverbindlich. Wir empfehlen, die Details vor einem Kauf mit dem Verkäufer zu überprüfen.


Art von Kunde Händler
1. Registrierung 2024
Online Angeboten 23
Letzte log in 1. Januar 2025

Beschreibung

iXH6045H Trockene Vakuumpumpe
Produktübersicht
Die trockene Vakuumpumpenserie iXH wurde speziell für anspruchsvolle Prozesse in der Halbleiterfertigung, bei Flachbildschirmen und Solaranwendungen entwickelt. Sie bietet reduzierte Betriebskosten mit 10 % weniger Energieverbrauch im Vergleich zu früheren Modellen. Die Pumpe verfügt über ein verbessertes Pulverhandling mit Gas Buster™-Technologie, einen weiten Betriebstemperaturbereich zur Minimierung der Ansammlung von Nebenprodukten und eine verbesserte Dichtungstechnologie, die die Lebensdauer der Pumpe verlängert und Leckagerisiken reduziert.

Spezifikationen
Modell: ACHD02123300XS
Spannung: 380-460V
Hochspannung: 6000V
Gas-Modul: Einzelmodus (44 sL/min Durchfluss)
Entlüftung: Standard ohne Rückschlagventil
Dichtungen: Standard
Pumpenmotor: 11 kW
Booster-Motor: 7,5 kW
Anwendungen
High-k- und Low-k-Anwendungen
SACVD-, LPCVD-, ALD-, TCO-, GaN- und EPI-Verfahren
CVD, PECVD und MOCVD
Strip/Bashing, Oxid-Ätzen, Metall-Ätzen und Implantatquelle
Technische Daten
Abmessungen:
Länge: 1080 mm
Breite: 517 mm
Höhe: 966 mm
Leistung:
Saugvermögen: 5000 - 5200 m³/h
Endvakuum: < 5 x 10-³ mbar
Maximaler Ansaugdruck: 1000 mbar
Kühlung:
Wasserdurchflussmenge: 12 l/min
Wasserversorgungsdruck: 6,9 bar (100 psig)
Wesentliche Merkmale
Hohe Wasserstoffpumpgeschwindigkeiten, ideal für fortschrittliche EPI- und Solarprozesse
Kompaktes Design mit geringerem Platzbedarf zur einfachen Integration in Fertigungsanlagen
Konformität mit UL-, CE- und S2-Normen
Diese Pumpe ist für anspruchsvolle Umgebungen optimiert, in denen verbesserte Prozessfähigkeit, Energieeffizienz und ein kompaktes Design entscheidend sind. Weitere Einzelheiten und Betriebsanleitungen finden Sie im vollständigen Produkthandbuch.

Bitte beachten Sie, dass diese Beschreibung automatich übersetzt wurde. Für weitere Informationen stehen wir Ihnen gerne zur Verfügung. Die Angaben in dieser Anzeige sind unverbindlich. Wir empfehlen, die Details vor einem Kauf mit dem Verkäufer zu überprüfen.

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Betriebsstunden
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Zustand wie besteht
CE-Norm ---------
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