Detaillierte Informationen

-------------------
Betriebsstunden
Einschaltstunden
Zustand hervorragend
CE-Norm ---------
Status in Produktion

Beschreibung

Das System Nano PLD-1000 ist ein voll integriertes Laserdepositionsgerät für mehrschichtige Schichten auf Substraten mit einem Durchmesser von bis zu 2 Zoll. Es nutzt drei Energiequellen: den PhysikCOMPex PRO 110 Coherent Lambda-Laser, eine Magnetron-Streuungsquelle und die Veeco 3 cm Ionenquelle.

Hauptkomponenten und Spezifikationen:
Lasersystem: PhysikCOMPex PRO 110 Lambda Excimer-Laser (248-nm, KrF) mit Ceramic Tube Technologie, bis zu 100Hz Wiederholgeschwindigkeit und 20 MWatt/Puls.
Magnetron-Quelle: PVD Products Titan-Magnetron mit einem Targetdurchmesser von 5 cm, das im DC- (max. 400 W) oder RF-Modus (max. 300 W) bei Drücken von 0,5 mTorr bis 1 Torr arbeitet.
Ionenquelle: 3-cm-Ionenquelle von Veeco mit Fokusgittern, Neutralisator, Strahlenergie von 50-1200 eV und einem maximalen Strom von 100 mA.
Vakuum-System:
Vakuumkammer mit Flanschen für Zubehör (z. B. Spektroskopie, Ionenkanone). Umfasst eine wassergekühlte Pfeiffer-Vakuumsonde, eine Turbopumpe (250 l/s, 60.000 U/min) und eine Rotationspumpe.
Vakuum-Messgeräte: InstruTech Convectron (atmosphärisch bis 10^-3 Torr) und Hornet Bayard-Alpert (bis 10^-9 Torr).
Digitaler MKS-Durchflussmesser (50 sccm), kalibriert für Sauerstoff mit manueller Abschaltung.
Optische und Manipulationsmerkmale:
Fester optischer Pfad mit 248 nm Wellenlänge, 2-Zoll-HR-Spiegeln und 60° Lasereinfallswinkel für geringere Kontamination.
Zielmanipulator mit drei Positionen (3" oder 6 x 2", max. Dicke 6 mm) mit computergesteuerter Auswahl und Rotation mit bis zu 50 U/min.
Handhabung des Substrats:
Substratheizung (max. 6000°C) mit wassergekühlter Beschichtung. Ziel-Substrat-Abstand: 75 mm.
Programmierbare Klappe für Probenwechsel mit motorisierter Z-Achsen-Halterung (2" Hub) und Turbopumpe (70 l/s, 90.000 U/min). Basisdruck: < 5 x 10^-8 Torr.
Zusätzliche Merkmale:
Nano PLD IW Intelligentes Fenstersystem mit Quarzglasscheibe und Strahlteiler für erweiterte Reinheit des optischen Weges.
Optisches Pyrometer (0,78-1,06 μm Spektralbereich) zur Überwachung der Substrattemperatur (500-2000°C).
Massendurchflussmesser, Wasserkühler, Luftkompressor und Rotationssubstratanordnung (bis zu 40 U/min) für eine gleichmäßige Schichtabscheidung.

Bitte beachten Sie, dass diese Beschreibung automatich übersetzt wurde. Für weitere Informationen stehen wir Ihnen gerne zur Verfügung. Die Angaben in dieser Anzeige sind unverbindlich. Wir empfehlen, die Details vor einem Kauf mit dem Verkäufer zu überprüfen.


pvd-products-usa-nano-pld-1000-p241126370_3.pdf Download
Art von Kunde Endbenutzer - KMU
1. Registrierung 2024
Online Angeboten 2
Letzte log in 26. November 2024

Beschreibung

Das System Nano PLD-1000 ist ein voll integriertes Laserdepositionsgerät für mehrschichtige Schichten auf Substraten mit einem Durchmesser von bis zu 2 Zoll. Es nutzt drei Energiequellen: den PhysikCOMPex PRO 110 Coherent Lambda-Laser, eine Magnetron-Streuungsquelle und die Veeco 3 cm Ionenquelle.

Hauptkomponenten und Spezifikationen:
Lasersystem: PhysikCOMPex PRO 110 Lambda Excimer-Laser (248-nm, KrF) mit Ceramic Tube Technologie, bis zu 100Hz Wiederholgeschwindigkeit und 20 MWatt/Puls.
Magnetron-Quelle: PVD Products Titan-Magnetron mit einem Targetdurchmesser von 5 cm, das im DC- (max. 400 W) oder RF-Modus (max. 300 W) bei Drücken von 0,5 mTorr bis 1 Torr arbeitet.
Ionenquelle: 3-cm-Ionenquelle von Veeco mit Fokusgittern, Neutralisator, Strahlenergie von 50-1200 eV und einem maximalen Strom von 100 mA.
Vakuum-System:
Vakuumkammer mit Flanschen für Zubehör (z. B. Spektroskopie, Ionenkanone). Umfasst eine wassergekühlte Pfeiffer-Vakuumsonde, eine Turbopumpe (250 l/s, 60.000 U/min) und eine Rotationspumpe.
Vakuum-Messgeräte: InstruTech Convectron (atmosphärisch bis 10^-3 Torr) und Hornet Bayard-Alpert (bis 10^-9 Torr).
Digitaler MKS-Durchflussmesser (50 sccm), kalibriert für Sauerstoff mit manueller Abschaltung.
Optische und Manipulationsmerkmale:
Fester optischer Pfad mit 248 nm Wellenlänge, 2-Zoll-HR-Spiegeln und 60° Lasereinfallswinkel für geringere Kontamination.
Zielmanipulator mit drei Positionen (3" oder 6 x 2", max. Dicke 6 mm) mit computergesteuerter Auswahl und Rotation mit bis zu 50 U/min.
Handhabung des Substrats:
Substratheizung (max. 6000°C) mit wassergekühlter Beschichtung. Ziel-Substrat-Abstand: 75 mm.
Programmierbare Klappe für Probenwechsel mit motorisierter Z-Achsen-Halterung (2" Hub) und Turbopumpe (70 l/s, 90.000 U/min). Basisdruck: < 5 x 10^-8 Torr.
Zusätzliche Merkmale:
Nano PLD IW Intelligentes Fenstersystem mit Quarzglasscheibe und Strahlteiler für erweiterte Reinheit des optischen Weges.
Optisches Pyrometer (0,78-1,06 μm Spektralbereich) zur Überwachung der Substrattemperatur (500-2000°C).
Massendurchflussmesser, Wasserkühler, Luftkompressor und Rotationssubstratanordnung (bis zu 40 U/min) für eine gleichmäßige Schichtabscheidung.

Bitte beachten Sie, dass diese Beschreibung automatich übersetzt wurde. Für weitere Informationen stehen wir Ihnen gerne zur Verfügung. Die Angaben in dieser Anzeige sind unverbindlich. Wir empfehlen, die Details vor einem Kauf mit dem Verkäufer zu überprüfen.


Detaillierte Informationen

-------------------
Betriebsstunden
Einschaltstunden
Zustand hervorragend
CE-Norm ---------
Status in Produktion

Bezüglich der/die Besitzer /in

Art von Kunde Endbenutzer - KMU
1. Registrierung 2024
Online Angeboten 2
Letzte log in 26. November 2024

Hier ist eine Auswahl ähnlicher Maschinen

PVD Products, USA NANO PLD 1000 Sondere Halbleiter Maschine