Máquina semiconductor ANNEALSYS AS-Micro Vendedor de confianza

17.000 €

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Fabricante	ANNEALSYS
Modelo	AS-Micro
Año	2017
Ubicación	Francia
Categoria	Semiconductor - Diversos
Número de producto	P230323112
Idioma	ANNEALSYS AS-Micro Polovodičový stroj ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Sondere Halbleiter Maschine ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Semiconductor machine Máquina semiconductor ANNEALSYS AS-Micro Four RTP ANNEALSYS AS-Micro de 2017 + pompe + ordinateur ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Macchina di semiconduttori ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Maszyna do półprzewodników ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Оборудование для полупроводников ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Yarı İletken Makinası ANNEALSYS AS-Micro

Detalles
Información acerca del vendedor

Información avanzada

-------------------
Horas en marcha
Horas bajo tensión
Estado general	bueno
Con Normativas CE	---------
Condición	visible

descripción

RTP ANNEALSYS AS-Microhorno de 2017 + bomba + ordenador

Perfecta condicion. Fecha de 2017.
Entregado con:
- Bomba de vacío y bomba de evacuación Agilent IDP3A01
- ordenador de control, software y código de usuario.
- manual

El AS-Micro es un procesador térmico de sobremesa compacto de tres pulgadas con capacidad de vacío dedicado a aplicaciones de investigación. Puede procesar sustratos desde unos pocos milímetros cuadrados hasta 3 pulgadas de diámetro o cuadrados. Los susceptores opcionales están disponibles para contener muestras pequeñas y procesar sustratos con baja absorción de infrarrojos.

La cámara de procesamiento de tubos de cuarzo con bridas de acero inoxidable y un horno tubular con lámparas halógenas infrarrojas permite procesar hasta 1250 °C con velocidades de rampa muy rápidas (> 250 °C/s). El controlador de temperatura de última generación garantiza un control preciso de la temperatura.

La puerta de movimiento horizontal con bandeja de cuarzo proporciona fácil acceso para la carga y descarga de obleas y la instalación de termopares.

Características
Furnace ofrece la velocidad de rampa más alta hasta 250 °C/s para obleas de 2".
Rango de temperatura: TA a 1250°C
Velocidad de rampa de hasta 250 °C/s en sustrato de silicona de 2 pulgadas de diámetro, 200 °C/s en sustrato de 3 pulgadas.
Capacidad de mezcla de gases con controladores de flujo másico
Rango de vacío: Atm a 10-2 Torr (10-6 Torr con bomba turbo opcional)
Control de temperatura de termopar con controlador de temperatura PID digital rápido
Control total de la PC con software compatible con Windows

semiconductor para electroquímica y nanomateriales / semiconductor / para laboratorio de obleas

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Tipo de cliente	Revendedor
Activo desde	2015
Ofertas en línea	59
Última actividad	21 de diciembre de 2024

Descripción

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Estado general	bueno
Con Normativas CE	---------
Condición	visible

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