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PVD Products, USA NANO PLD 1000 P241126370
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Máquina semiconductor PVD Products, USA NANO PLD 1000 Vendedor verificado

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Fabricante PVD Products, USA
Modelo NANO PLD 1000
Año 2014
Ubicación Rumania RO
Categoria Semiconductor - Diversos
Número de producto P241126370
Idioma
bg Полупроводникова машина PVD Products, USA NANO PLD 1000
cs Polovodičový stroj PVD Products, USA NANO PLD 1000
da PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halvleder maskine
de PVD Products, USA NANO PLD 1000 Sondere Halbleiter Maschine
el Μηχανή ημιαγωγών PVD Products, USA NANO PLD 1000
en Laser Ablation Thin Film Deposition System
es Máquina semiconductor PVD Products, USA NANO PLD 1000
fr Equipement de semi-conducteur PVD Products, USA NANO PLD 1000
hr Poluvodički stroj PVD Products, USA NANO PLD 1000
hu PVD Products, USA NANO PLD 1000 Félvezető gép
it Macchina di semiconduttori PVD Products, USA NANO PLD 1000
lt Puslaidininkinė mašina PVD Products, USA NANO PLD 1000
nl PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halfgeleidermachine
pl Maszyna do półprzewodników PVD Products, USA NANO PLD 1000
pt Máquina semicondutora PVD Products, USA NANO PLD 1000
ro Mașină cu semiconductor PVD Products, USA NANO PLD 1000
ru PVD Products, USA NANO PLD 1000 Оборудование для полупроводников
sr Poluprovodnička mašina PVD Products, USA NANO PLD 1000
sv PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halvledarmaskin
tr Yarı İletken Makinası PVD Products, USA NANO PLD 1000

Información avanzada

-------------------
Horas en marcha
Horas bajo tensión
Estado general excelente
Con Normativas CE ---------
Condición en producción

descripción

El sistema Nano PLD-1000 es un instrumento de deposición láser totalmente integrado para películas multicapa sobre sustratos de hasta 2 pulgadas de diámetro. Utiliza tres fuentes de energía: el láser PhysikCOMPex PRO 110 Coherent Lambda, una fuente de dispersión de magnetrón y la fuente de iones Veeco de 3 cm.

Componentes clave y especificaciones:
Sistema láser: Láser excimer PhysikCOMPex PRO 110 Lambda (248 nm, KrF) con tecnología de tubo cerámico, velocidad de repetición de hasta 100 Hz y 20 MW/pulso.
Fuente de magnetrón: Magnetrón Titan de PVD Products con un diámetro de blanco de 5 cm, que funciona en modo CC (400 W máx.) o RF (300 W máx.) a presiones de 0,5 mTorr a 1 Torr.
Fuente de iones: Fuente de iones Veeco de 3 cm con rejillas de enfoque, neutralizador, energía del haz de 50-1200 eV y corriente máxima de 100 mA.
Sistema de vacío:
Cámara de vacío con bridas para accesorios (por ejemplo, espectroscopia, cañón de iones). Incluye una sonda de vacío Pfeiffer refrigerada por agua, una turbobomba (250 l/s, 60.000 RPM) y una bomba rotativa.
Medidores de vacío: InstruTech Convectron (atmosférico hasta 10^-3 Torr) y Hornet Bayard-Alpert (hasta 10^-9 Torr).
Caudalímetro digital MKS (50 sccm) calibrado para oxígeno con cierre manual.
Características ópticas y de manipulación:
Trayectoria óptica fija con longitud de onda de 248 nm, espejos HR de 2 pulgadas y ángulo de incidencia del láser de 60° para reducir la contaminación.
Manipulador de objetivos de tres posiciones (3" o 6 x 2", grosor máximo de 6 mm) con selección computerizada y rotación de hasta 50 RPM.
Manipulación de sustratos:
Calentador de sustrato (6000°C máx.) con revestimiento refrigerado por agua. Distancia objetivo-sustrato: 75 mm.
Escotilla programable para cambios de muestra con soporte motorizado en el eje Z (carrera de 2") y bomba turbo (70 l/s, 90.000 RPM). Presión de base: < 5 x 10^-8 Torr.
Características adicionales:
Sistema de ventana inteligente Nano PLD IW con disco de cristal de cuarzo y divisor de haz para una mayor limpieza del camino óptico.
Pirómetro óptico (rango espectral de 0,78-1,06 μm) para la monitorización de la temperatura del sustrato (500-2000°C).
Medidores de flujo másico, refrigerador de agua, compresor de aire y conjunto de sustrato giratorio (hasta 40 RPM) para una deposición uniforme de la película.

Por favor, tenga en cuenta que la descripción puede ser automatizada. Contactar con nosotros para más informaciones. La información de este anuncio clasificado sólo es indicativa. Recomendamos a los compradores que la comprueben con el vendedor antes de la compra.


pvd-products-usa-nano-pld-1000-p241126370_3.pdf Descargar
Tipo de cliente Usuario profesional
Activo desde 2024
Ofertas en línea 2
Última actividad 26 de noviembre de 2024

Descripción

El sistema Nano PLD-1000 es un instrumento de deposición láser totalmente integrado para películas multicapa sobre sustratos de hasta 2 pulgadas de diámetro. Utiliza tres fuentes de energía: el láser PhysikCOMPex PRO 110 Coherent Lambda, una fuente de dispersión de magnetrón y la fuente de iones Veeco de 3 cm.

Componentes clave y especificaciones:
Sistema láser: Láser excimer PhysikCOMPex PRO 110 Lambda (248 nm, KrF) con tecnología de tubo cerámico, velocidad de repetición de hasta 100 Hz y 20 MW/pulso.
Fuente de magnetrón: Magnetrón Titan de PVD Products con un diámetro de blanco de 5 cm, que funciona en modo CC (400 W máx.) o RF (300 W máx.) a presiones de 0,5 mTorr a 1 Torr.
Fuente de iones: Fuente de iones Veeco de 3 cm con rejillas de enfoque, neutralizador, energía del haz de 50-1200 eV y corriente máxima de 100 mA.
Sistema de vacío:
Cámara de vacío con bridas para accesorios (por ejemplo, espectroscopia, cañón de iones). Incluye una sonda de vacío Pfeiffer refrigerada por agua, una turbobomba (250 l/s, 60.000 RPM) y una bomba rotativa.
Medidores de vacío: InstruTech Convectron (atmosférico hasta 10^-3 Torr) y Hornet Bayard-Alpert (hasta 10^-9 Torr).
Caudalímetro digital MKS (50 sccm) calibrado para oxígeno con cierre manual.
Características ópticas y de manipulación:
Trayectoria óptica fija con longitud de onda de 248 nm, espejos HR de 2 pulgadas y ángulo de incidencia del láser de 60° para reducir la contaminación.
Manipulador de objetivos de tres posiciones (3" o 6 x 2", grosor máximo de 6 mm) con selección computerizada y rotación de hasta 50 RPM.
Manipulación de sustratos:
Calentador de sustrato (6000°C máx.) con revestimiento refrigerado por agua. Distancia objetivo-sustrato: 75 mm.
Escotilla programable para cambios de muestra con soporte motorizado en el eje Z (carrera de 2") y bomba turbo (70 l/s, 90.000 RPM). Presión de base: < 5 x 10^-8 Torr.
Características adicionales:
Sistema de ventana inteligente Nano PLD IW con disco de cristal de cuarzo y divisor de haz para una mayor limpieza del camino óptico.
Pirómetro óptico (rango espectral de 0,78-1,06 μm) para la monitorización de la temperatura del sustrato (500-2000°C).
Medidores de flujo másico, refrigerador de agua, compresor de aire y conjunto de sustrato giratorio (hasta 40 RPM) para una deposición uniforme de la película.

Por favor, tenga en cuenta que la descripción puede ser automatizada. Contactar con nosotros para más informaciones. La información de este anuncio clasificado sólo es indicativa. Recomendamos a los compradores que la comprueben con el vendedor antes de la compra.

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