Four RTP ANNEALSYS AS-Micro de 2017 + pompe + ordinateur Top vendeur

17 000 €

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Fabricant	ANNEALSYS
Modèle	AS-Micro
Année	2017
Localisation	France
Catégorie	Autres équipements de semi-conducteurs
Numéro de produit	P230323112
Langue	ANNEALSYS AS-Micro Polovodičový stroj ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Sondere Halbleiter Maschine ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Semiconductor machine Máquina semiconductor ANNEALSYS AS-Micro Four RTP ANNEALSYS AS-Micro de 2017 + pompe + ordinateur ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Macchina di semiconduttori ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Maszyna do półprzewodników ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Оборудование для полупроводников ANNEALSYS AS-Micro ANNEALSYS AS-Micro Yarı İletken Makinası ANNEALSYS AS-Micro

Détails
A propos de ce vendeur

Spécifications

-------------------
Heures de travail
Heures sous tension
État	bon
Aux normes locales	---------
Statut	visible

description

Four RTP ANNEALSYS AS-Micro de 2017 + pompe + ordinateur

Parfait état. Date de 2017.
Livré avec :
- pompe à vide Agilent IDP3A01 et pompe d'évacuation
- ordinateur de controle, logiciel et code utilisateur.
- manuel

L'AS-Micro est un processeur thermique rapide compact de table de trois pouces avec capacité de vide dédié aux applications de recherche. Il peut traiter des substrats de quelques millimètres carrés jusqu'à un diamètre de 3 pouces ou carré. Des suscepteurs sont disponibles en option pour contenir de petits échantillons et pour traiter des substrats à faible absorption infrarouge.

La chambre de traitement en tube de quartz avec des brides en acier inoxydable et un four tubulaire à lampes halogènes infrarouges permet d'effectuer des traitements jusqu'à 1250°C avec des taux de rampe très rapides (> 250°C/s). Le régulateur de température ultramoderne assure un contrôle précis de la température.

La porte à mouvement horizontal avec plateau en quartz facilite l'accès pour le chargement et le déchargement des plaquettes et l'installation des thermocouples.

Caractéristiques
Le four offre le taux de rampe le plus élevé jusqu'à 250°C/s pour les plaquettes de 2 pouces.
Plage de température : RT à 1250°C
Vitesse de rampe jusqu'à 250°C/s sur un substrat de silicium de 2 pouces de diamètre, 200°C/s sur un substrat de 3 pouces.
Possibilité de mélange de gaz avec des régulateurs de débit massique
Plage de vide : Atm à 10-2 Torr (10-6 Torr avec pompe turbo en option)
Contrôle de la température par thermocouple avec régulateur de température numérique PID rapide
Contrôle complet par PC avec logiciel compatible Windows

pour laboratoire electrochimie et nanomatériaux semi conducteur / semiconductor / wafer

Veuillez noter que cette description a pu être traduite automatiquement, merci de nous contacter si vous avez besoin d'informations complémentaires. Les informations de cette annonce ne sont données qu'à titre indicatif. Nous recommandons de les vérifier avec le vendeur avant tout achat

Type de client	Revendeur
Actif depuis	2015
Offres en ligne	63
Dernière activité	21 novembre 2024

Description

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État	bon
Aux normes locales	---------
Statut	visible

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