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PVD Products, USA NANO PLD 1000 P241126370
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Equipement de semi-conducteur PVD Products, USA NANO PLD 1000 Vendeur vérifié

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Fabricant PVD Products, USA
Modèle NANO PLD 1000
Année 2014
Localisation Roumanie RO
Catégorie Autres équipements de semi-conducteurs
Numéro de produit P241126370
Langue
bg Полупроводникова машина PVD Products, USA NANO PLD 1000
cs Polovodičový stroj PVD Products, USA NANO PLD 1000
da PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halvleder maskine
de PVD Products, USA NANO PLD 1000 Sondere Halbleiter Maschine
el Μηχανή ημιαγωγών PVD Products, USA NANO PLD 1000
en Laser Ablation Thin Film Deposition System
es Máquina semiconductor PVD Products, USA NANO PLD 1000
fr Equipement de semi-conducteur PVD Products, USA NANO PLD 1000
hr Poluvodički stroj PVD Products, USA NANO PLD 1000
hu PVD Products, USA NANO PLD 1000 Félvezető gép
it Macchina di semiconduttori PVD Products, USA NANO PLD 1000
lt Puslaidininkinė mašina PVD Products, USA NANO PLD 1000
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ro Mașină cu semiconductor PVD Products, USA NANO PLD 1000
ru PVD Products, USA NANO PLD 1000 Оборудование для полупроводников
sr Poluprovodnička mašina PVD Products, USA NANO PLD 1000
sv PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halvledarmaskin
tr Yarı İletken Makinası PVD Products, USA NANO PLD 1000

Spécifications

-------------------
Heures de travail
Heures sous tension
État excellent
Aux normes locales ---------
Statut en production

description

Le système Nano PLD-1000 est un instrument de dépôt laser entièrement intégré pour les films multicouches sur des substrats jusqu'à 2 pouces de diamètre. Il utilise trois sources d'énergie : le laser Lambda cohérent PhysikCOMPex PRO 110, une source de diffusion magnétron et la source d'ions Veeco 3 cm.

Principaux composants et spécifications :
Système laser : Laser excimer PhysikCOMPex PRO 110 Lambda (248 nm, KrF) avec technologie Ceramic Tube, vitesse de répétition jusqu'à 100 Hz et 20 MWatts/impulsion.
Source magnétron : Magnétron Titan de PVD Products avec un diamètre de cible de 5 cm, fonctionnant en mode DC (400 W max) ou RF (300 W max) à des pressions de 0,5 mTorr à 1 Torr.
Source d'ions : Source d'ions Veeco de 3 cm avec grilles de focalisation, neutralisateur, énergie de faisceau de 50 à 1200 eV et courant maximal de 100 mA.
Système de vide :
Chambre à vide avec brides pour accessoires (par exemple, spectroscopie, canon à ions). Comprend une sonde à vide Pfeiffer refroidie à l'eau, une turbopompe (250 l/s, 60 000 tr/min) et une pompe rotative.
Jauges à vide : InstruTech Convectron (atmosphérique à 10^-3 Torr) et Hornet Bayard-Alpert (à 10^-9 Torr).
Débitmètre numérique MKS (50 sccm) étalonné pour l'oxygène avec arrêt manuel.
Caractéristiques optiques et de manipulation :
Chemin optique fixe avec une longueur d'onde de 248 nm, des miroirs HR de 2 pouces et un angle d'incidence du laser de 60° pour réduire la contamination.
Manipulateur de cible à trois positions (3" ou 6 x 2", épaisseur maximale de 6 mm) avec sélection informatisée et rotation jusqu'à 50 tours/minute.
Manipulation du substrat :
Chauffage du substrat (6000°C max) avec revêtement refroidi à l'eau. Distance cible-substrat : 75 mm.
Trappe programmable pour les changements d'échantillons avec support motorisé sur l'axe Z (course de 2") et turbopompe (70 l/s, 90 000 tr/min). Pression de base : < 5 x 10^-8 Torr.
Caractéristiques supplémentaires :
Système Nano PLD IW Intelligent Window avec disque en verre de quartz et séparateur de faisceau pour une propreté accrue du trajet optique.
Pyromètre optique (gamme spectrale 0,78-1,06 μm) pour la surveillance de la température du substrat (500-2000°C).
Débitmètres massiques, refroidisseur d'eau, compresseur d'air et assemblage de substrat rotatif (jusqu'à 40 RPM) pour un dépôt de film uniforme.

Veuillez noter que cette description a pu être traduite automatiquement, merci de nous contacter si vous avez besoin d'informations complémentaires. Les informations de cette annonce ne sont données qu'à titre indicatif. Nous recommandons de les vérifier avec le vendeur avant tout achat


pvd-products-usa-nano-pld-1000-p241126370_3.pdf Télécharger
Type de client Utilisateur - PME
Actif depuis 2024
Offres en ligne 2
Dernière activité 26 novembre 2024

Description

Le système Nano PLD-1000 est un instrument de dépôt laser entièrement intégré pour les films multicouches sur des substrats jusqu'à 2 pouces de diamètre. Il utilise trois sources d'énergie : le laser Lambda cohérent PhysikCOMPex PRO 110, une source de diffusion magnétron et la source d'ions Veeco 3 cm.

Principaux composants et spécifications :
Système laser : Laser excimer PhysikCOMPex PRO 110 Lambda (248 nm, KrF) avec technologie Ceramic Tube, vitesse de répétition jusqu'à 100 Hz et 20 MWatts/impulsion.
Source magnétron : Magnétron Titan de PVD Products avec un diamètre de cible de 5 cm, fonctionnant en mode DC (400 W max) ou RF (300 W max) à des pressions de 0,5 mTorr à 1 Torr.
Source d'ions : Source d'ions Veeco de 3 cm avec grilles de focalisation, neutralisateur, énergie de faisceau de 50 à 1200 eV et courant maximal de 100 mA.
Système de vide :
Chambre à vide avec brides pour accessoires (par exemple, spectroscopie, canon à ions). Comprend une sonde à vide Pfeiffer refroidie à l'eau, une turbopompe (250 l/s, 60 000 tr/min) et une pompe rotative.
Jauges à vide : InstruTech Convectron (atmosphérique à 10^-3 Torr) et Hornet Bayard-Alpert (à 10^-9 Torr).
Débitmètre numérique MKS (50 sccm) étalonné pour l'oxygène avec arrêt manuel.
Caractéristiques optiques et de manipulation :
Chemin optique fixe avec une longueur d'onde de 248 nm, des miroirs HR de 2 pouces et un angle d'incidence du laser de 60° pour réduire la contamination.
Manipulateur de cible à trois positions (3" ou 6 x 2", épaisseur maximale de 6 mm) avec sélection informatisée et rotation jusqu'à 50 tours/minute.
Manipulation du substrat :
Chauffage du substrat (6000°C max) avec revêtement refroidi à l'eau. Distance cible-substrat : 75 mm.
Trappe programmable pour les changements d'échantillons avec support motorisé sur l'axe Z (course de 2") et turbopompe (70 l/s, 90 000 tr/min). Pression de base : < 5 x 10^-8 Torr.
Caractéristiques supplémentaires :
Système Nano PLD IW Intelligent Window avec disque en verre de quartz et séparateur de faisceau pour une propreté accrue du trajet optique.
Pyromètre optique (gamme spectrale 0,78-1,06 μm) pour la surveillance de la température du substrat (500-2000°C).
Débitmètres massiques, refroidisseur d'eau, compresseur d'air et assemblage de substrat rotatif (jusqu'à 40 RPM) pour un dépôt de film uniforme.

Veuillez noter que cette description a pu être traduite automatiquement, merci de nous contacter si vous avez besoin d'informations complémentaires. Les informations de cette annonce ne sont données qu'à titre indicatif. Nous recommandons de les vérifier avec le vendeur avant tout achat

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Heures sous tension
État excellent
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