Műszaki adatok

-------------------
Ledolgozott órák
Óra áram alatt
Állapot kiváló
Helyi normák szerint ---------
Állapot termelésben

Leírás

A Nano PLD-1000 rendszer egy teljesen integrált lézeres leválasztó berendezés többrétegű filmek előállítására akár 2 hüvelyk átmérőjű hordozókon. Három energiaforrást használ: a PhysikCOMPex PRO 110 Coherent Lambda lézert, egy magnetron szórásforrást és a Veeco 3 cm-es ionforrást.

Főbb összetevők és specifikációk:
Lézerrendszer: PhysikCOMPex PRO 110 Lambda excimer lézer (248 nm, KrF) Ceramic Tube technológiával, akár 100 Hz ismétlési sebességgel és 20 MWat/impulzus.
Magnetronforrás: PVD Products Titan magnetron 5 cm-es céltárgyátmérővel, egyenáramú (max. 400 W) vagy rádiófrekvenciás (max. 300 W) üzemmódban, 0,5 mTorr-tól 1 Torr-ig terjedő nyomáson.
Ionforrás: Veeco 3 cm-es ionforrás fókuszrácsokkal, semlegesítővel, 50-1200 eV sugárenergiával és 100 mA maximális árammal.
Vákuumrendszer:
Vákuumkamra karimákkal a tartozékok (pl. spektroszkópia, ionágyú) számára. Tartalmaz egy Pfeiffer vízhűtéses vákuumszondát, turbószivattyút (250 l/s, 60 000 RPM) és rotációs szivattyút.
Vákuummérők: InstruTech Convectron (atmoszférikus 10^-3 Torrig) és Hornet Bayard-Alpert (10^-9 Torrig).
MKS digitális áramlásmérő (50 sccm), oxigénre kalibrálva, kézi elzárással.
Optikai és manipulációs jellemzők:
Fix optikai útvonal 248 nm-es hullámhosszal, 2 hüvelykes HR-tükrökkel és 60°-os lézer beesési szöggel a csökkentett szennyeződés érdekében.
Háromállású céltárgymanipulátor (3" vagy 6 x 2", max. 6 mm vastagság) számítógépes kiválasztással és legfeljebb 50 fordulat/perc fordulatszámú forgatással.
Szubsztrátkezelés:
Szubsztrátfűtő (max. 6000 °C) vízhűtéses bevonattal. Célpont-szubsztrát távolság: 75 mm.
Programozható nyílás a mintacserékhez Z-tengelyes motoros konzollal (2" löket) és turbószivattyúval (70 l/s, 90 000 RPM). Alapnyomás: < 5 x 10^-8 Torr.
További jellemzők:
Nano PLD IW intelligens ablakrendszer kvarcüveg tárcsával és sugárelosztóval a kiterjesztett optikai útvonal tisztasága érdekében.
Optikai pirométer (0,78-1,06 μm spektrális tartomány) a szubsztrát hőmérsékletének (500-2000°C) ellenőrzéséhez.
Tömegáramlásmérők, vízhűtő, légkompresszor és forgó hordozószerelvény (40 RPM-ig) az egyenletes filmleválasztáshoz.

Kérjük, vegye figyelembe, hogy ezt a leírást automatikusan lefordították. További információért forduljon hozzánk. A hirdetésben szereplő információk tájékoztató jellegűek. Az Exapro azt javasolja, hogy vásárlás előtt ellenőrizze a részleteket az eladóval


pvd-products-usa-nano-pld-1000-p241126370_3.pdf Letöltés
Ügyfél típusa Felhasználó - KKV
Óta aktív 2024
Ajánlatok online 2
Utolsó bejelentkezés, utolsó használat 2024. november 26.

Leírás

A Nano PLD-1000 rendszer egy teljesen integrált lézeres leválasztó berendezés többrétegű filmek előállítására akár 2 hüvelyk átmérőjű hordozókon. Három energiaforrást használ: a PhysikCOMPex PRO 110 Coherent Lambda lézert, egy magnetron szórásforrást és a Veeco 3 cm-es ionforrást.

Főbb összetevők és specifikációk:
Lézerrendszer: PhysikCOMPex PRO 110 Lambda excimer lézer (248 nm, KrF) Ceramic Tube technológiával, akár 100 Hz ismétlési sebességgel és 20 MWat/impulzus.
Magnetronforrás: PVD Products Titan magnetron 5 cm-es céltárgyátmérővel, egyenáramú (max. 400 W) vagy rádiófrekvenciás (max. 300 W) üzemmódban, 0,5 mTorr-tól 1 Torr-ig terjedő nyomáson.
Ionforrás: Veeco 3 cm-es ionforrás fókuszrácsokkal, semlegesítővel, 50-1200 eV sugárenergiával és 100 mA maximális árammal.
Vákuumrendszer:
Vákuumkamra karimákkal a tartozékok (pl. spektroszkópia, ionágyú) számára. Tartalmaz egy Pfeiffer vízhűtéses vákuumszondát, turbószivattyút (250 l/s, 60 000 RPM) és rotációs szivattyút.
Vákuummérők: InstruTech Convectron (atmoszférikus 10^-3 Torrig) és Hornet Bayard-Alpert (10^-9 Torrig).
MKS digitális áramlásmérő (50 sccm), oxigénre kalibrálva, kézi elzárással.
Optikai és manipulációs jellemzők:
Fix optikai útvonal 248 nm-es hullámhosszal, 2 hüvelykes HR-tükrökkel és 60°-os lézer beesési szöggel a csökkentett szennyeződés érdekében.
Háromállású céltárgymanipulátor (3" vagy 6 x 2", max. 6 mm vastagság) számítógépes kiválasztással és legfeljebb 50 fordulat/perc fordulatszámú forgatással.
Szubsztrátkezelés:
Szubsztrátfűtő (max. 6000 °C) vízhűtéses bevonattal. Célpont-szubsztrát távolság: 75 mm.
Programozható nyílás a mintacserékhez Z-tengelyes motoros konzollal (2" löket) és turbószivattyúval (70 l/s, 90 000 RPM). Alapnyomás: < 5 x 10^-8 Torr.
További jellemzők:
Nano PLD IW intelligens ablakrendszer kvarcüveg tárcsával és sugárelosztóval a kiterjesztett optikai útvonal tisztasága érdekében.
Optikai pirométer (0,78-1,06 μm spektrális tartomány) a szubsztrát hőmérsékletének (500-2000°C) ellenőrzéséhez.
Tömegáramlásmérők, vízhűtő, légkompresszor és forgó hordozószerelvény (40 RPM-ig) az egyenletes filmleválasztáshoz.

Kérjük, vegye figyelembe, hogy ezt a leírást automatikusan lefordították. További információért forduljon hozzánk. A hirdetésben szereplő információk tájékoztató jellegűek. Az Exapro azt javasolja, hogy vásárlás előtt ellenőrizze a részleteket az eladóval


Műszaki adatok

-------------------
Ledolgozott órák
Óra áram alatt
Állapot kiváló
Helyi normák szerint ---------
Állapot termelésben

Erről az eladóról

Ügyfél típusa Felhasználó - KKV
Óta aktív 2024
Ajánlatok online 2
Utolsó bejelentkezés, utolsó használat 2024. november 26.

Íme egy válogatás hasonló gépekből

PVD Products, USA NANO PLD 1000 Félvezető gép