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EDWARDS IXH 6045H P241116087
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Pompe EDWARDS IXH 6045H Venditore verificato

12.500 €

Fare un'offerta
Marca EDWARDS
Modello IXH 6045H
Anno
Ubicazione India IN
Categoria Pompe
Numero del prodotto P241116087
Lingua
bg индустриална помпа EDWARDS IXH 6045H
cs Pumpa EDWARDS IXH 6045H
da EDWARDS IXH 6045H industriel pumpe
de EDWARDS IXH 6045H Pumpe
el βιομηχανική αντλία EDWARDS IXH 6045H
en EDWARDS IXH 6045H Dry Vacuum Pump
es Bomba EDWARDS IXH 6045H
fr pompe industrielle EDWARDS IXH 6045H
hr industrijska pumpa EDWARDS IXH 6045H
hu EDWARDS IXH 6045H ipari szivattyú
it Pompe EDWARDS IXH 6045H
lt pramoninis siurblys EDWARDS IXH 6045H
nl EDWARDS IXH 6045H industriële pomp
pl Pompa EDWARDS IXH 6045H
pt bomba industrial EDWARDS IXH 6045H
ro pompa industriala EDWARDS IXH 6045H
ru EDWARDS IXH 6045H Насосно-трубопроводная система
sr industrijska pumpa EDWARDS IXH 6045H
sv EDWARDS IXH 6045H industriell pump
tr Endüstriyel pompa EDWARDS IXH 6045H

Specifiche tecniche

-------------------
Ore effettuate
Ore allacciato alla corrente
Condizione così com'è
Conforme alle norme CE ---------
Stato

descrizione

Pompa per vuoto a secco iXH6045H
Panoramica del prodotto
La serie di pompe a secco iXH è progettata specificamente per i processi più impegnativi nella produzione di semiconduttori, display a schermo piatto e applicazioni solari. Offre un costo di gestione ridotto con un consumo energetico inferiore del 10% rispetto ai modelli precedenti. La pompa è dotata di una migliore gestione delle polveri grazie alla tecnologia Gas Buster™, di un ampio intervallo di temperatura operativa per ridurre al minimo l'accumulo di sottoprodotti e di una tecnologia di tenuta migliorata per prolungare la durata della pompa e ridurre i rischi di perdita.

Specifiche tecniche
Modello: ACHD02123300XS
Tensione: 380-460V
Alta tensione: 6000V
Modulo gas: Modalità singola (flusso 44 sL/min)
Scarico: Standard senza valvola di non ritorno
Guarnizioni: Standard
Motore della pompa: 11 kW
Motore ausiliario: 7,5 kW
Applicazioni
Applicazioni high-k e low-k
Processi SACVD, LPCVD, ALD, TCO, GaN e EPI
CVD, PECVD e MOCVD
Strip/ashing, incisione di ossidi, incisione di metalli e sorgente di impianti
Specifiche tecniche
Dimensioni:
Lunghezza: 1080 mm
Larghezza: 517 mm
Altezza: 966 mm
Prestazioni:
Velocità di pompaggio: 5000 - 5200 m³/h
Vuoto finale: < 5 x 10-³ mbar
Pressione massima in ingresso: 1000 mbar
Raffreddamento:
Portata d'acqua: 12 l/min
Pressione di alimentazione dell'acqua: 6,9 bar (100 psig)
Caratteristiche principali
Elevata velocità di pompaggio dell'idrogeno, ideale per i processi EPI e solari avanzati
Design compatto con ingombro ridotto per una facile integrazione nelle strutture di produzione
Conformità agli standard UL, CE e S2
Questa pompa è ottimizzata per gli ambienti più esigenti, dove sono fondamentali una maggiore capacità di processo, l'efficienza energetica e un design compatto. Per ulteriori dettagli e indicazioni operative, consultare il manuale completo del prodotto.

Si avvisa che la descrizione puo´ esser stata tradotta automaticamente. Ci contatti per ulteriori informazioni. Le informazioni di questo annuncio classificato sono solo indicative. Consigliamo di verificare i dettagli con il venditore prima dell' acquisto


Tipo di cliente Rivenditore
Attivo dal 2024
Offerte online 23
Ultima attività 01 Gennaio 2025

Descrizione

Pompa per vuoto a secco iXH6045H
Panoramica del prodotto
La serie di pompe a secco iXH è progettata specificamente per i processi più impegnativi nella produzione di semiconduttori, display a schermo piatto e applicazioni solari. Offre un costo di gestione ridotto con un consumo energetico inferiore del 10% rispetto ai modelli precedenti. La pompa è dotata di una migliore gestione delle polveri grazie alla tecnologia Gas Buster™, di un ampio intervallo di temperatura operativa per ridurre al minimo l'accumulo di sottoprodotti e di una tecnologia di tenuta migliorata per prolungare la durata della pompa e ridurre i rischi di perdita.

Specifiche tecniche
Modello: ACHD02123300XS
Tensione: 380-460V
Alta tensione: 6000V
Modulo gas: Modalità singola (flusso 44 sL/min)
Scarico: Standard senza valvola di non ritorno
Guarnizioni: Standard
Motore della pompa: 11 kW
Motore ausiliario: 7,5 kW
Applicazioni
Applicazioni high-k e low-k
Processi SACVD, LPCVD, ALD, TCO, GaN e EPI
CVD, PECVD e MOCVD
Strip/ashing, incisione di ossidi, incisione di metalli e sorgente di impianti
Specifiche tecniche
Dimensioni:
Lunghezza: 1080 mm
Larghezza: 517 mm
Altezza: 966 mm
Prestazioni:
Velocità di pompaggio: 5000 - 5200 m³/h
Vuoto finale: < 5 x 10-³ mbar
Pressione massima in ingresso: 1000 mbar
Raffreddamento:
Portata d'acqua: 12 l/min
Pressione di alimentazione dell'acqua: 6,9 bar (100 psig)
Caratteristiche principali
Elevata velocità di pompaggio dell'idrogeno, ideale per i processi EPI e solari avanzati
Design compatto con ingombro ridotto per una facile integrazione nelle strutture di produzione
Conformità agli standard UL, CE e S2
Questa pompa è ottimizzata per gli ambienti più esigenti, dove sono fondamentali una maggiore capacità di processo, l'efficienza energetica e un design compatto. Per ulteriori dettagli e indicazioni operative, consultare il manuale completo del prodotto.

Si avvisa che la descrizione puo´ esser stata tradotta automaticamente. Ci contatti per ulteriori informazioni. Le informazioni di questo annuncio classificato sono solo indicative. Consigliamo di verificare i dettagli con il venditore prima dell' acquisto

Specifiche tecniche

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Ore effettuate
Ore allacciato alla corrente
Condizione così com'è
Conforme alle norme CE ---------
Stato

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Tipo di cliente Rivenditore
Attivo dal 2024
Offerte online 23
Ultima attività 01 Gennaio 2025

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