Specifiche tecniche

-------------------
Ore effettuate
Ore allacciato alla corrente
Condizione buono
Conforme alle norme CE ---------
Stato

descrizione

Controllato da PLC, offre una lettura in tempo reale dei parametri operativi del sistema e un'azione correttiva in caso di interruzione.
Plasma attivo per la pulizia di routine delle superfici dei campioni
Plasma RIE per la pulizia aggressiva di campioni non sensibili all'ESD
Plasma a valle, senza elettroni, per la pulizia di componenti elettronici sensibili.
Il pulitore al plasma Glen R3A può essere utilizzato in una sequenza di plasma singola o doppia
Sorgente di alimentazione al plasma CA PE-1000 di Advanced Energy; 500w@ 40khz
Elettrodi: (2) set di elettrodi da 14 x 14 pollici; in grado di contenere fino a 8 vassoi di campioni
3 modalità di plasma:
PLASMA ATTIVO per la pulizia di routine delle superfici del campione
RIE PLASMA per la pulizia aggressiva di campioni non sensibili all'ESD
DOWNSTREAM ELECTRON-FREE PLASMA per la pulizia di componenti elettronici sensibili
Ingressi gas: doppi ingressi gas con valvole a spillo, controllati da PLC
Interfaccia computer: Interfaccia RS 232
Requisiti di alimentazione: 110Volt
Corrente nominale a pieno carico: 13 Amp
Pompa del vuoto non inclusa

Si avvisa che la descrizione puo´ esser stata tradotta automaticamente. Ci contatti per ulteriori informazioni. Le informazioni di questo annuncio classificato sono solo indicative. Consigliamo di verificare i dettagli con il venditore prima dell' acquisto


Tipo di cliente Rivenditore
Attivo dal 2019
Offerte online 73
Ultima attività 07 Gennaio 2025

Descrizione

Controllato da PLC, offre una lettura in tempo reale dei parametri operativi del sistema e un'azione correttiva in caso di interruzione.
Plasma attivo per la pulizia di routine delle superfici dei campioni
Plasma RIE per la pulizia aggressiva di campioni non sensibili all'ESD
Plasma a valle, senza elettroni, per la pulizia di componenti elettronici sensibili.
Il pulitore al plasma Glen R3A può essere utilizzato in una sequenza di plasma singola o doppia
Sorgente di alimentazione al plasma CA PE-1000 di Advanced Energy; 500w@ 40khz
Elettrodi: (2) set di elettrodi da 14 x 14 pollici; in grado di contenere fino a 8 vassoi di campioni
3 modalità di plasma:
PLASMA ATTIVO per la pulizia di routine delle superfici del campione
RIE PLASMA per la pulizia aggressiva di campioni non sensibili all'ESD
DOWNSTREAM ELECTRON-FREE PLASMA per la pulizia di componenti elettronici sensibili
Ingressi gas: doppi ingressi gas con valvole a spillo, controllati da PLC
Interfaccia computer: Interfaccia RS 232
Requisiti di alimentazione: 110Volt
Corrente nominale a pieno carico: 13 Amp
Pompa del vuoto non inclusa

Si avvisa che la descrizione puo´ esser stata tradotta automaticamente. Ci contatti per ulteriori informazioni. Le informazioni di questo annuncio classificato sono solo indicative. Consigliamo di verificare i dettagli con il venditore prima dell' acquisto


Specifiche tecniche

-------------------
Ore effettuate
Ore allacciato alla corrente
Condizione buono
Conforme alle norme CE ---------
Stato

In merito a questo venditore

Tipo di cliente Rivenditore
Attivo dal 2019
Offerte online 73
Ultima attività 07 Gennaio 2025

Di seguito una selezione di macchine simili

Impianto taglio plasma/ossitaglio Glen Technologies R3A