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PVD Products, USA NANO PLD 1000 P241126370
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Macchina di semiconduttori PVD Products, USA NANO PLD 1000 Venditore verificato

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Marca PVD Products, USA
Modello NANO PLD 1000
Anno 2014
Ubicazione Romania RO
Categoria Semiconduttori - Vari
Numero del prodotto P241126370
Lingua
bg Полупроводникова машина PVD Products, USA NANO PLD 1000
cs Polovodičový stroj PVD Products, USA NANO PLD 1000
da PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halvleder maskine
de PVD Products, USA NANO PLD 1000 Sondere Halbleiter Maschine
el Μηχανή ημιαγωγών PVD Products, USA NANO PLD 1000
en Laser Ablation Thin Film Deposition System
es Máquina semiconductor PVD Products, USA NANO PLD 1000
fr Equipement de semi-conducteur PVD Products, USA NANO PLD 1000
hr Poluvodički stroj PVD Products, USA NANO PLD 1000
hu PVD Products, USA NANO PLD 1000 Félvezető gép
it Macchina di semiconduttori PVD Products, USA NANO PLD 1000
lt Puslaidininkinė mašina PVD Products, USA NANO PLD 1000
nl PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halfgeleidermachine
pl Maszyna do półprzewodników PVD Products, USA NANO PLD 1000
pt Máquina semicondutora PVD Products, USA NANO PLD 1000
ro Mașină cu semiconductor PVD Products, USA NANO PLD 1000
ru PVD Products, USA NANO PLD 1000 Оборудование для полупроводников
sr Poluprovodnička mašina PVD Products, USA NANO PLD 1000
sv PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halvledarmaskin
tr Yarı İletken Makinası PVD Products, USA NANO PLD 1000

Specifiche tecniche

-------------------
Ore effettuate
Ore allacciato alla corrente
Condizione ottimo
Conforme alle norme CE ---------
Stato in produzione

descrizione

Il sistema Nano PLD-1000 è uno strumento di deposizione laser completamente integrato per film multistrato su substrati fino a 2 pollici di diametro. Utilizza tre sorgenti di energia: il laser PhysikCOMPex PRO 110 Coherent Lambda, una sorgente di scattering magnetronico e la sorgente ionica Veeco da 3 cm.

Componenti e specifiche principali:
Sistema laser: Laser a eccimeri PhysikCOMPex PRO 110 Lambda (248-nm, KrF) con tecnologia Ceramic Tube, velocità di ripetizione fino a 100Hz e 20 MWatt/impulso.
Sorgente magnetronica: Magnetron PVD Products Titan con diametro del bersaglio di 5 cm, funzionante in modalità DC (400 W max) o RF (300 W max) a pressioni da 0,5 mTorr a 1 Torr.
Sorgente ionica: Sorgente ionica Veeco da 3 cm con griglie di focalizzazione, neutralizzatore, energia del fascio di 50-1200 eV e corrente massima di 100 mA.
Sistema di vuoto:
Camera da vuoto con flange per accessori (es. spettroscopia, cannone ionico). Include una sonda da vuoto Pfeiffer raffreddata ad acqua, una pompa turbo (250 l/s, 60.000 RPM) e una pompa rotante.
Misuratori di vuoto: InstruTech Convectron (atmosferico a 10^-3 Torr) e Hornet Bayard-Alpert (a 10^-9 Torr).
Misuratore di flusso digitale MKS (50 sccm) calibrato per l'ossigeno con spegnimento manuale.
Caratteristiche ottiche e di manipolazione:
Percorso ottico fisso con lunghezza d'onda di 248 nm, specchi HR da 2 pollici e angolo di incidenza del laser di 60° per ridurre la contaminazione.
Manipolatore di target a tre posizioni (3" o 6 x 2", spessore massimo 6 mm) con selezione computerizzata e rotazione fino a 50 RPM.
Manipolazione del substrato:
Riscaldatore del substrato (6000°C max) con rivestimento raffreddato ad acqua. Distanza target-substrato: 75 mm.
Sportello programmabile per il cambio del campione con staffa motorizzata sull'asse Z (corsa 2") e pompa turbo (70 l/s, 90.000 RPM). Pressione di base: < 5 x 10^-8 Torr.
Caratteristiche aggiuntive:
Sistema Nano PLD IW Intelligent Window con disco di vetro al quarzo e beam splitter per una maggiore pulizia del percorso ottico.
Pirometro ottico (gamma spettrale 0,78-1,06 μm) per il monitoraggio della temperatura del substrato (500-2000°C).
Misuratori di portata massica, raffreddatore d'acqua, compressore d'aria e gruppo substrato rotante (fino a 40 RPM) per una deposizione uniforme del film.

Si avvisa che la descrizione puo´ esser stata tradotta automaticamente. Ci contatti per ulteriori informazioni. Le informazioni di questo annuncio classificato sono solo indicative. Consigliamo di verificare i dettagli con il venditore prima dell' acquisto


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Tipo di cliente Utente finale
Attivo dal 2024
Offerte online 2
Ultima attività 26 Novembre 2024

Descrizione

Il sistema Nano PLD-1000 è uno strumento di deposizione laser completamente integrato per film multistrato su substrati fino a 2 pollici di diametro. Utilizza tre sorgenti di energia: il laser PhysikCOMPex PRO 110 Coherent Lambda, una sorgente di scattering magnetronico e la sorgente ionica Veeco da 3 cm.

Componenti e specifiche principali:
Sistema laser: Laser a eccimeri PhysikCOMPex PRO 110 Lambda (248-nm, KrF) con tecnologia Ceramic Tube, velocità di ripetizione fino a 100Hz e 20 MWatt/impulso.
Sorgente magnetronica: Magnetron PVD Products Titan con diametro del bersaglio di 5 cm, funzionante in modalità DC (400 W max) o RF (300 W max) a pressioni da 0,5 mTorr a 1 Torr.
Sorgente ionica: Sorgente ionica Veeco da 3 cm con griglie di focalizzazione, neutralizzatore, energia del fascio di 50-1200 eV e corrente massima di 100 mA.
Sistema di vuoto:
Camera da vuoto con flange per accessori (es. spettroscopia, cannone ionico). Include una sonda da vuoto Pfeiffer raffreddata ad acqua, una pompa turbo (250 l/s, 60.000 RPM) e una pompa rotante.
Misuratori di vuoto: InstruTech Convectron (atmosferico a 10^-3 Torr) e Hornet Bayard-Alpert (a 10^-9 Torr).
Misuratore di flusso digitale MKS (50 sccm) calibrato per l'ossigeno con spegnimento manuale.
Caratteristiche ottiche e di manipolazione:
Percorso ottico fisso con lunghezza d'onda di 248 nm, specchi HR da 2 pollici e angolo di incidenza del laser di 60° per ridurre la contaminazione.
Manipolatore di target a tre posizioni (3" o 6 x 2", spessore massimo 6 mm) con selezione computerizzata e rotazione fino a 50 RPM.
Manipolazione del substrato:
Riscaldatore del substrato (6000°C max) con rivestimento raffreddato ad acqua. Distanza target-substrato: 75 mm.
Sportello programmabile per il cambio del campione con staffa motorizzata sull'asse Z (corsa 2") e pompa turbo (70 l/s, 90.000 RPM). Pressione di base: < 5 x 10^-8 Torr.
Caratteristiche aggiuntive:
Sistema Nano PLD IW Intelligent Window con disco di vetro al quarzo e beam splitter per una maggiore pulizia del percorso ottico.
Pirometro ottico (gamma spettrale 0,78-1,06 μm) per il monitoraggio della temperatura del substrato (500-2000°C).
Misuratori di portata massica, raffreddatore d'acqua, compressore d'aria e gruppo substrato rotante (fino a 40 RPM) per una deposizione uniforme del film.

Si avvisa che la descrizione puo´ esser stata tradotta automaticamente. Ci contatti per ulteriori informazioni. Le informazioni di questo annuncio classificato sono solo indicative. Consigliamo di verificare i dettagli con il venditore prima dell' acquisto

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Ore effettuate
Ore allacciato alla corrente
Condizione ottimo
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