Macchina per wafer Semilab CMS3 Venditore verificato

descrizione

CARATTERIZZAZIONE RAPIDA E SENZA CONTATTO DEI MATERIALI E CONTROLLO DEI PROCESSI

La resistenza della lamina dell'emettitore è un parametro primario di controllo della qualità dei wafer di silicio nelle applicazioni fotovoltaiche dopo la diffusione dell'emettitore.

I modelli CLS, CLS-1A, CLS-3A e CLS-5A, tester di resistenza dello strato di emettitore, consentono di misurare la resistenza dello strato da 1 a 5 punti con un'elevata produttività che soddisfa i requisiti del controllo qualità in linea nelle linee di produzione di celle completamente automatizzate.

I modelli CMS, CMS-1A e CMS-3A, tester di resistenza delle lastre con emettitore, consentono di misurare i wafer senza che il nastro trasportatore si fermi durante la misurazione. Pertanto, hanno un'elevata produttività che soddisfa i requisiti del controllo qualità in linea nelle linee di produzione di celle completamente automatizzate.

Caratteristiche e specifiche del sistema:

Tecnica di misura: senza contatto, con fototensione di giunzione (JPV).
Dimensioni del campione: da 100 a 156 mm (opzione 210 mm)
Struttura del campione: giunzioni np o pn
Campo di misura: 10 Î/mq. a 200 I/mq.
Distanza della sonda: 1,5 mm di altezza della sonda sopra il nastro di trasporto
Tolleranza sulla posizione verticale del wafer: < 400 μm
Supporto del campione: su nastro
Calibrazione: da wafer verificati con sonda a quattro punti
Opzioni:

Modulo di misura (incl. teste di misura della resistenza della lastra 1A-5A)
PC industriale (sistema operativo Windows) e periferiche
Opzione controllore emettitore CLS-1M
Sensore di presenza del wafer (solo CMS)
Ampia gamma di interfacce disponibili per l'automazione e il MES:

I/O isolati otticamente a 24 V, interfaccia Ethernet
Profibus
OPC DA
protocollo TCP/IP, il contenuto può essere XML o ASCII
Database SQL
SECS/GEM