Specificaties

-------------------
Gewerkte uren
Uur onder stroom
Staat uitstekend
Volgens lokale normen ---------
Toestand in de maak

Beschrijving

Het Nano PLD-1000 systeem is een volledig geïntegreerd laser depositie-instrument voor meerlaagse films op substraten tot 2 inch in diameter. Het maakt gebruik van drie energiebronnen: de PhysikCOMPex PRO 110 coherente Lambda laser, een magnetronverstrooiingsbron en de Veeco 3 cm ionenbron.

Belangrijkste onderdelen en specificaties:
Lasersysteem: PhysikCOMPex PRO 110 Lambda-excimerlaser (248-nm, KrF) met keramische buistechnologie, herhalingssnelheid tot 100 Hz en 20 MWatt/puls.
Magnetronbron: PVD Products Titan magnetron met een 5 cm doeldiameter, werkend in DC (400 W max) of RF (300 W max) modus bij drukken van 0,5 mTorr tot 1 Torr.
Ionenbron: Veeco 3 cm ionenbron met focusroosters, neutralisator, bundelenergie van 50-1200 eV en maximale stroom van 100 mA.
Vacuümsysteem:
Vacuümkamer met flenzen voor accessoires (bijv. spectroscopie, ionenkanon). Omvat een Pfeiffer watergekoelde vacuümsonde, turbopomp (250 l/s, 60.000 RPM) en rotatiepomp.
Vacuümmeters: InstruTech Convectron (atmosferisch tot 10^-3 Torr) en Hornet Bayard-Alpert (tot 10^-9 Torr).
MKS digitale debietmeter (50 sccm) gekalibreerd voor zuurstof met handmatige uitschakeling.
Optische en manipulatie-eigenschappen:
Vast optisch pad met 248 nm golflengte, 2-inch HR-spiegels en 60° laserinvalshoek voor minder contaminatie.
Doelmanipulator met drie posities (3" of 6 x 2", max. dikte 6 mm) met computergestuurde selectie en rotatie tot 50 RPM.
Behandeling van substraten:
Substraatverwarming (max. 6000°C) met watergekoelde coating. Afstand doel-substraat: 75 mm.
Programmeerbaar luik voor monsterwissels met gemotoriseerde Z-as beugel (2" slag) en turbopomp (70 l/s, 90.000 RPM). Basisdruk: < 5 x 10^-8 Torr.
Extra functies:
Nano PLD IW Intelligent Window systeem met een kwartsglasschijf en bundelsplitser voor een grotere zuiverheid van het optische pad.
Optische pyrometer (0,78-1,06 μm spectraal bereik) voor bewaking van de substraattemperatuur (500-2000°C).
Massastroommeters, waterkoeler, luchtcompressor en roterende substraatassemblage (tot 40 RPM) voor gelijkmatige filmdepositie.

Houd er rekening mee dat deze beschrijving mogelijk automatisch is vertaald. Neem contact met ons op voor meer informatie. De gegevens van deze rubrieksadvertentie zijn slechts indicatief. Exapro raadt aan om vóór een aankoop de gegevens bij de verkoper te controleren


pvd-products-usa-nano-pld-1000-p241126370_3.pdf Downloaden
Type klant Gebruiker - MKB
Actief sinds 2024
Aanbiedingen online 2
Laatste Activiteit 26 november 2024

Beschrijving

Het Nano PLD-1000 systeem is een volledig geïntegreerd laser depositie-instrument voor meerlaagse films op substraten tot 2 inch in diameter. Het maakt gebruik van drie energiebronnen: de PhysikCOMPex PRO 110 coherente Lambda laser, een magnetronverstrooiingsbron en de Veeco 3 cm ionenbron.

Belangrijkste onderdelen en specificaties:
Lasersysteem: PhysikCOMPex PRO 110 Lambda-excimerlaser (248-nm, KrF) met keramische buistechnologie, herhalingssnelheid tot 100 Hz en 20 MWatt/puls.
Magnetronbron: PVD Products Titan magnetron met een 5 cm doeldiameter, werkend in DC (400 W max) of RF (300 W max) modus bij drukken van 0,5 mTorr tot 1 Torr.
Ionenbron: Veeco 3 cm ionenbron met focusroosters, neutralisator, bundelenergie van 50-1200 eV en maximale stroom van 100 mA.
Vacuümsysteem:
Vacuümkamer met flenzen voor accessoires (bijv. spectroscopie, ionenkanon). Omvat een Pfeiffer watergekoelde vacuümsonde, turbopomp (250 l/s, 60.000 RPM) en rotatiepomp.
Vacuümmeters: InstruTech Convectron (atmosferisch tot 10^-3 Torr) en Hornet Bayard-Alpert (tot 10^-9 Torr).
MKS digitale debietmeter (50 sccm) gekalibreerd voor zuurstof met handmatige uitschakeling.
Optische en manipulatie-eigenschappen:
Vast optisch pad met 248 nm golflengte, 2-inch HR-spiegels en 60° laserinvalshoek voor minder contaminatie.
Doelmanipulator met drie posities (3" of 6 x 2", max. dikte 6 mm) met computergestuurde selectie en rotatie tot 50 RPM.
Behandeling van substraten:
Substraatverwarming (max. 6000°C) met watergekoelde coating. Afstand doel-substraat: 75 mm.
Programmeerbaar luik voor monsterwissels met gemotoriseerde Z-as beugel (2" slag) en turbopomp (70 l/s, 90.000 RPM). Basisdruk: < 5 x 10^-8 Torr.
Extra functies:
Nano PLD IW Intelligent Window systeem met een kwartsglasschijf en bundelsplitser voor een grotere zuiverheid van het optische pad.
Optische pyrometer (0,78-1,06 μm spectraal bereik) voor bewaking van de substraattemperatuur (500-2000°C).
Massastroommeters, waterkoeler, luchtcompressor en roterende substraatassemblage (tot 40 RPM) voor gelijkmatige filmdepositie.

Houd er rekening mee dat deze beschrijving mogelijk automatisch is vertaald. Neem contact met ons op voor meer informatie. De gegevens van deze rubrieksadvertentie zijn slechts indicatief. Exapro raadt aan om vóór een aankoop de gegevens bij de verkoper te controleren


Specificaties

-------------------
Gewerkte uren
Uur onder stroom
Staat uitstekend
Volgens lokale normen ---------
Toestand in de maak

Over deze verkoper

Type klant Gebruiker - MKB
Actief sinds 2024
Aanbiedingen online 2
Laatste Activiteit 26 november 2024

Hier vindt u een selectie van vergelijkbare machines

PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halfgeleidermachine