Kategorie
Sprzedawaj

Konto

Zaloguj się
Utwórz konto

Konto

Zaloguj się
Utwórz konto
PVD Products, USA NANO PLD 1000 P241126370
PVD Products, USA NANO PLD 1000 P241126370
PVD Products, USA NANO PLD 1000 P241126370
PVD Products, USA NANO PLD 1000 P241126370

Maszyna do półprzewodników PVD Products, USA NANO PLD 1000 Zweryfikowany sprzedawca

Cena na zapytanie

Zaoferuj cenę
Producent PVD Products, USA
Model NANO PLD 1000
Rok 2014
Lokalizacja Rumunia RO
Rodzaj Półprzewodniki - inne
ID produktu P241126370
Język
bg Полупроводникова машина PVD Products, USA NANO PLD 1000
cs Polovodičový stroj PVD Products, USA NANO PLD 1000
da PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halvleder maskine
de PVD Products, USA NANO PLD 1000 Sondere Halbleiter Maschine
el Μηχανή ημιαγωγών PVD Products, USA NANO PLD 1000
en Laser Ablation Thin Film Deposition System
es Máquina semiconductor PVD Products, USA NANO PLD 1000
fr Equipement de semi-conducteur PVD Products, USA NANO PLD 1000
hr Poluvodički stroj PVD Products, USA NANO PLD 1000
hu PVD Products, USA NANO PLD 1000 Félvezető gép
it Macchina di semiconduttori PVD Products, USA NANO PLD 1000
lt Puslaidininkinė mašina PVD Products, USA NANO PLD 1000
nl PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halfgeleidermachine
pl Maszyna do półprzewodników PVD Products, USA NANO PLD 1000
pt Máquina semicondutora PVD Products, USA NANO PLD 1000
ro Mașină cu semiconductor PVD Products, USA NANO PLD 1000
ru PVD Products, USA NANO PLD 1000 Оборудование для полупроводников
sr Poluprovodnička mašina PVD Products, USA NANO PLD 1000
sv PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halvledarmaskin
tr Yarı İletken Makinası PVD Products, USA NANO PLD 1000

Dane techniczne

-------------------
Roboczogodziny
Godziny podłączenia do prądu
Stan techniczny bardzo dobry
Zgodność z normami CE ---------
Status w produkcji

Opis

System Nano PLD-1000 jest w pełni zintegrowanym urządzeniem do osadzania laserowego wielowarstwowych warstw na podłożach o średnicy do 2 cali. Wykorzystuje on trzy źródła energii: laser Coherent Lambda PhysikCOMPex PRO 110, źródło rozpraszania magnetronowego oraz źródło jonów Veeco 3 cm.

Kluczowe komponenty i specyfikacje:
System laserowy: Laser ekscymerowy PhysikCOMPex PRO 110 Lambda (248 nm, KrF) z technologią Ceramic Tube, prędkością powtarzania do 100 Hz i mocą 20 MW/impuls.
Źródło magnetronowe: Magnetron PVD Products Titan o średnicy tarczy 5 cm, pracujący w trybach DC (maks. 400 W) lub RF (maks. 300 W) przy ciśnieniu od 0,5 mTorr do 1 Torr.
Źródło jonów: Źródło jonów Veeco 3 cm z siatkami ogniskującymi, neutralizatorem, energią wiązki 50-1200 eV i maksymalnym prądem 100 mA.
System próżniowy:
Komora próżniowa z kołnierzami do akcesoriów (np. spektroskopia, działo jonowe). Zawiera chłodzoną wodą sondę próżniową Pfeiffer, pompę turbo (250 l/s, 60 000 obr./min) i pompę rotacyjną.
Mierniki próżni: InstruTech Convectron (atmosferyczny do 10^-3 Torr) i Hornet Bayard-Alpert (do 10^-9 Torr).
Przepływomierz cyfrowy MKS (50 sccm) skalibrowany dla tlenu z ręcznym odcięciem.
Funkcje optyczne i manipulacyjne:
Stała ścieżka optyczna o długości fali 248 nm, 2-calowe zwierciadła HR i kąt padania lasera 60° w celu zmniejszenia zanieczyszczenia.
Trójpozycyjny manipulator celu (3" lub 6 x 2", maks. grubość 6 mm) ze skomputeryzowanym wyborem i obrotem do 50 obr.
Obsługa podłoża:
Podgrzewacz podłoża (maks. 6000°C) z powłoką chłodzoną wodą. Odległość cel-podłoże: 75 mm.
Programowalna klapa do wymiany próbek ze zmotoryzowanym wspornikiem osi Z (skok 2") i pompą turbo (70 l/s, 90 000 obr./min). Ciśnienie bazowe: < 5 x 10^-8 Torr.
Dodatkowe funkcje:
Inteligentny system okien Nano PLD IW z tarczą ze szkła kwarcowego i rozdzielaczem wiązki zapewniającym większą czystość ścieżki optycznej.
Pirometr optyczny (zakres spektralny 0,78-1,06 μm) do monitorowania temperatury podłoża (500-2000°C).
Przepływomierze masowe, chłodnica wody, sprężarka powietrza i obrotowy zespół podłoża (do 40 obr./min) do równomiernego osadzania warstwy.

Ten opis mógł być przetłumaczony automatycznie. W celu uzyskania dalszych informacji prosimy o kontakt. Informacje zawarte w tym ogłoszeniu mają jedynie charakter orientacyjny. Sugerujemy sprawdzić szczegóły ze sprzedawcą przed dokonaniem zakupu.


pvd-products-usa-nano-pld-1000-p241126370_3.pdf Pobierz
Rodzaj klienta Użytkownik - małe i średnie firmy
Aktywny od 2024
Liczba ofert online 2
Ostatnia aktywność 26 listopada 2024

Opis

System Nano PLD-1000 jest w pełni zintegrowanym urządzeniem do osadzania laserowego wielowarstwowych warstw na podłożach o średnicy do 2 cali. Wykorzystuje on trzy źródła energii: laser Coherent Lambda PhysikCOMPex PRO 110, źródło rozpraszania magnetronowego oraz źródło jonów Veeco 3 cm.

Kluczowe komponenty i specyfikacje:
System laserowy: Laser ekscymerowy PhysikCOMPex PRO 110 Lambda (248 nm, KrF) z technologią Ceramic Tube, prędkością powtarzania do 100 Hz i mocą 20 MW/impuls.
Źródło magnetronowe: Magnetron PVD Products Titan o średnicy tarczy 5 cm, pracujący w trybach DC (maks. 400 W) lub RF (maks. 300 W) przy ciśnieniu od 0,5 mTorr do 1 Torr.
Źródło jonów: Źródło jonów Veeco 3 cm z siatkami ogniskującymi, neutralizatorem, energią wiązki 50-1200 eV i maksymalnym prądem 100 mA.
System próżniowy:
Komora próżniowa z kołnierzami do akcesoriów (np. spektroskopia, działo jonowe). Zawiera chłodzoną wodą sondę próżniową Pfeiffer, pompę turbo (250 l/s, 60 000 obr./min) i pompę rotacyjną.
Mierniki próżni: InstruTech Convectron (atmosferyczny do 10^-3 Torr) i Hornet Bayard-Alpert (do 10^-9 Torr).
Przepływomierz cyfrowy MKS (50 sccm) skalibrowany dla tlenu z ręcznym odcięciem.
Funkcje optyczne i manipulacyjne:
Stała ścieżka optyczna o długości fali 248 nm, 2-calowe zwierciadła HR i kąt padania lasera 60° w celu zmniejszenia zanieczyszczenia.
Trójpozycyjny manipulator celu (3" lub 6 x 2", maks. grubość 6 mm) ze skomputeryzowanym wyborem i obrotem do 50 obr.
Obsługa podłoża:
Podgrzewacz podłoża (maks. 6000°C) z powłoką chłodzoną wodą. Odległość cel-podłoże: 75 mm.
Programowalna klapa do wymiany próbek ze zmotoryzowanym wspornikiem osi Z (skok 2") i pompą turbo (70 l/s, 90 000 obr./min). Ciśnienie bazowe: < 5 x 10^-8 Torr.
Dodatkowe funkcje:
Inteligentny system okien Nano PLD IW z tarczą ze szkła kwarcowego i rozdzielaczem wiązki zapewniającym większą czystość ścieżki optycznej.
Pirometr optyczny (zakres spektralny 0,78-1,06 μm) do monitorowania temperatury podłoża (500-2000°C).
Przepływomierze masowe, chłodnica wody, sprężarka powietrza i obrotowy zespół podłoża (do 40 obr./min) do równomiernego osadzania warstwy.

Ten opis mógł być przetłumaczony automatycznie. W celu uzyskania dalszych informacji prosimy o kontakt. Informacje zawarte w tym ogłoszeniu mają jedynie charakter orientacyjny. Sugerujemy sprawdzić szczegóły ze sprzedawcą przed dokonaniem zakupu.

Dane techniczne

-------------------
Roboczogodziny
Godziny podłączenia do prądu
Stan techniczny bardzo dobry
Zgodność z normami CE ---------
Status w produkcji

O sprzedawcy

Rodzaj klienta Użytkownik - małe i średnie firmy
Aktywny od 2024
Liczba ofert online 2
Ostatnia aktywność 26 listopada 2024

Lista podobnych maszyn

Zobaczy alternatywy

Ładowanie podobnych ofert...

Kategorie

menu Kategorie Wyszukaj

menu

Sprzedawaj

Maszyna do półprzewodników PVD Products, USA NANO PLD 1000