Maszyna do produkcji płytek półprzewodnikowych Semilab CMS3 Zweryfikowany sprzedawca

Opis

SZYBKA BEZKONTAKTOWA CHARAKTERYSTYKA MATERIAŁU I KONTROLA PROCESU

Rezystancja arkusza emitera jest podstawowym parametrem kontroli jakości wafli krzemowych w zastosowaniach fotowoltaicznych po dyfuzji emitera.

Modele CLS, CLS-1A, CLS-3A i CLS-5A, testery rezystancji arkusza emitera umożliwiają pomiar rezystancji arkusza w 1 do 5 punktach z wysoką przepustowością, która spełnia wymagania kontroli jakości in-line na w pełni zautomatyzowanych liniach produkcyjnych ogniw.

Modele CMS, CMS-1A, CMS-3A, Emitter Sheet Resistance Testers umożliwiają pomiar wafli, tj. przenośnik taśmowy nie zatrzymuje się podczas pomiaru. W związku z tym mają wysoką przepustowość, która spełnia wymagania kontroli jakości in-line w pełni zautomatyzowanych liniach produkcyjnych ogniw.

Cechy i specyfikacje systemu:

Technika pomiaru: bezkontaktowa, fotonapięcie złącza (JPV)
Rozmiar próbki: od 100 do 156 mm (opcja 210 mm)
Struktura próbki: złącza np lub pn
Zakres pomiarowy: 10 Î/sq. do 200 I/sq.
Odległość sondy: 1,5 mm wysokości sondy nad pasem transportowym
Tolerancja pozycji pionowej płytki: < 400 μm
Podparcie próbki: na taśmie
Kalibracja: wafle zweryfikowane za pomocą czteropunktowej sondy
Opcje:

Moduł pomiarowy (w tym głowice pomiarowe rezystancji arkuszy 1A-5A)
Przemysłowy komputer PC (system operacyjny Windows) i urządzenia peryferyjne
Opcjonalny kontroler emiterów CLS-1M
Czujnik obecności płytki (tylko CMS)
Szeroka gama dostępnych interfejsów do automatyzacji i MES:

Optycznie izolowane wejścia/wyjścia 24 V, interfejs Ethernet
Profibus
OPC DA
Protokół TCP/IP, zawartość może być XML lub ASCII
Baza danych SQL
SECS/GEM