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EDWARDS IXH 6045H P241116087
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Bomba industrial EDWARDS IXH 6045H Vendedor verificado

12.500 €

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Fabricante EDWARDS
Modelo IXH 6045H
Ano
Localização Índia IN
Categoria Bombas e sistemas de bombeamento industriais
ID do produto P241116087
Linguagem
bg индустриална помпа EDWARDS IXH 6045H
cs Pumpa EDWARDS IXH 6045H
da EDWARDS IXH 6045H industriel pumpe
de EDWARDS IXH 6045H Pumpe
el βιομηχανική αντλία EDWARDS IXH 6045H
en EDWARDS IXH 6045H Dry Vacuum Pump
es Bomba EDWARDS IXH 6045H
fr pompe industrielle EDWARDS IXH 6045H
hr industrijska pumpa EDWARDS IXH 6045H
hu EDWARDS IXH 6045H ipari szivattyú
it Pompe EDWARDS IXH 6045H
lt pramoninis siurblys EDWARDS IXH 6045H
nl EDWARDS IXH 6045H industriële pomp
pl Pompa EDWARDS IXH 6045H
pt bomba industrial EDWARDS IXH 6045H
ro pompa industriala EDWARDS IXH 6045H
ru EDWARDS IXH 6045H Насосно-трубопроводная система
sr industrijska pumpa EDWARDS IXH 6045H
sv EDWARDS IXH 6045H industriell pump
tr Endüstriyel pompa EDWARDS IXH 6045H

Especificações

-------------------
Horas trabalhadas
Horas sob energia
Estado tal como está, onde está
Nas normas locais ---------
Status

Descrição

Bomba de vácuo seca iXH6045H
Visão geral do produto
A série de bombas a seco iXH foi especificamente concebida para processos exigentes no fabrico de semicondutores, ecrãs planos e aplicações solares. Oferece um custo reduzido de propriedade com 10% menos consumo de energia em comparação com os modelos anteriores. A bomba apresenta um manuseamento de pó melhorado com a tecnologia Gas Buster™, uma vasta gama de temperaturas de funcionamento para minimizar a acumulação de subprodutos e uma tecnologia de vedação melhorada para prolongar a vida útil da bomba e reduzir os riscos de fugas.

Especificações
Modelo: ACHD02123300XS
Tensão: 380-460V
Alta tensão: 6000V
Módulo de gás: Modo único (fluxo de 44 sL/min)
Exaustão: Padrão sem válvula de retenção
Vedações: Padrão
Motor da bomba: 11 kW
Motor de reforço: 7,5 kW
Aplicações
Aplicações de alto e baixo k
Processos SACVD, LPCVD, ALD, TCO, GaN e EPI
CVD, PECVD e MOCVD
Strip/ashing, oxide etch, metal etch, e fonte de implante
Especificações técnicas
Dimensões:
Comprimento: 1080 mm
Largura: 517 mm
Altura: 966 mm
Desempenho:
Velocidade de bombeamento: 5000 - 5200 m³/h
Vácuo máximo: < 5 x 10-³ mbar
Pressão máxima de entrada: 1000 mbar
Arrefecimento:
Caudal de água: 12 l/min
Pressão de alimentação de água: 6,9 bar (100 psig)
Caraterísticas principais
Elevadas velocidades de bombagem de hidrogénio, ideais para processos avançados de EPI e solares
Design compacto com uma pegada mais pequena para fácil integração em instalações de fabrico
Conformidade com as normas UL, CE e S2
Esta bomba está optimizada para ambientes exigentes onde a capacidade de processo melhorada, a eficiência energética e um design compacto são cruciais. Para obter mais detalhes e orientações operacionais, consulte o manual completo do produto.

Observe que esta descrição pode ter sido traduzida automaticamente. Contate-nos para mais informações. As informações deste anúncio classificado são apenas indicativas. Exapro recomenda verificar os detalhes com o vendedor antes de comprar


Tipo de cliente Distribuidor
Ativo Desde 2024
Ofertas on-line 23
Ultima atividade 1 de Janeiro de 2025

Descrição

Bomba de vácuo seca iXH6045H
Visão geral do produto
A série de bombas a seco iXH foi especificamente concebida para processos exigentes no fabrico de semicondutores, ecrãs planos e aplicações solares. Oferece um custo reduzido de propriedade com 10% menos consumo de energia em comparação com os modelos anteriores. A bomba apresenta um manuseamento de pó melhorado com a tecnologia Gas Buster™, uma vasta gama de temperaturas de funcionamento para minimizar a acumulação de subprodutos e uma tecnologia de vedação melhorada para prolongar a vida útil da bomba e reduzir os riscos de fugas.

Especificações
Modelo: ACHD02123300XS
Tensão: 380-460V
Alta tensão: 6000V
Módulo de gás: Modo único (fluxo de 44 sL/min)
Exaustão: Padrão sem válvula de retenção
Vedações: Padrão
Motor da bomba: 11 kW
Motor de reforço: 7,5 kW
Aplicações
Aplicações de alto e baixo k
Processos SACVD, LPCVD, ALD, TCO, GaN e EPI
CVD, PECVD e MOCVD
Strip/ashing, oxide etch, metal etch, e fonte de implante
Especificações técnicas
Dimensões:
Comprimento: 1080 mm
Largura: 517 mm
Altura: 966 mm
Desempenho:
Velocidade de bombeamento: 5000 - 5200 m³/h
Vácuo máximo: < 5 x 10-³ mbar
Pressão máxima de entrada: 1000 mbar
Arrefecimento:
Caudal de água: 12 l/min
Pressão de alimentação de água: 6,9 bar (100 psig)
Caraterísticas principais
Elevadas velocidades de bombagem de hidrogénio, ideais para processos avançados de EPI e solares
Design compacto com uma pegada mais pequena para fácil integração em instalações de fabrico
Conformidade com as normas UL, CE e S2
Esta bomba está optimizada para ambientes exigentes onde a capacidade de processo melhorada, a eficiência energética e um design compacto são cruciais. Para obter mais detalhes e orientações operacionais, consulte o manual completo do produto.

Observe que esta descrição pode ter sido traduzida automaticamente. Contate-nos para mais informações. As informações deste anúncio classificado são apenas indicativas. Exapro recomenda verificar os detalhes com o vendedor antes de comprar

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Horas trabalhadas
Horas sob energia
Estado tal como está, onde está
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Ativo Desde 2024
Ofertas on-line 23
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