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PVD Products, USA NANO PLD 1000 P241126370
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Máquina semicondutora PVD Products, USA NANO PLD 1000 Vendedor verificado

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Fabricante PVD Products, USA
Modelo NANO PLD 1000
Ano 2014
Localização Romênia RO
Categoria Diversos semicondutores
ID do produto P241126370
Linguagem
bg Полупроводникова машина PVD Products, USA NANO PLD 1000
cs Polovodičový stroj PVD Products, USA NANO PLD 1000
da PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halvleder maskine
de PVD Products, USA NANO PLD 1000 Sondere Halbleiter Maschine
el Μηχανή ημιαγωγών PVD Products, USA NANO PLD 1000
en Laser Ablation Thin Film Deposition System
es Máquina semiconductor PVD Products, USA NANO PLD 1000
fr Equipement de semi-conducteur PVD Products, USA NANO PLD 1000
hr Poluvodički stroj PVD Products, USA NANO PLD 1000
hu PVD Products, USA NANO PLD 1000 Félvezető gép
it Macchina di semiconduttori PVD Products, USA NANO PLD 1000
lt Puslaidininkinė mašina PVD Products, USA NANO PLD 1000
nl PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halfgeleidermachine
pl Maszyna do półprzewodników PVD Products, USA NANO PLD 1000
pt Máquina semicondutora PVD Products, USA NANO PLD 1000
ro Mașină cu semiconductor PVD Products, USA NANO PLD 1000
ru PVD Products, USA NANO PLD 1000 Оборудование для полупроводников
sr Poluprovodnička mašina PVD Products, USA NANO PLD 1000
sv PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halvledarmaskin
tr Yarı İletken Makinası PVD Products, USA NANO PLD 1000

Especificações

-------------------
Horas trabalhadas
Horas sob energia
Estado excelente
Nas normas locais ---------
Status em produção

Descrição

O sistema Nano PLD-1000 é um instrumento de deposição a laser totalmente integrado para películas multicamadas em substratos de até 2 polegadas de diâmetro. Utiliza três fontes de energia: o laser PhysikCOMPex PRO 110 Coherent Lambda, uma fonte de dispersão magnetrónica e a fonte de iões Veeco de 3 cm.

Principais componentes e especificações:
Sistema de laser: Laser excimer PhysikCOMPex PRO 110 Lambda (248 nm, KrF) com tecnologia de tubo cerâmico, velocidade de repetição de até 100 Hz e 20 MWatts/pulso.
Fonte de magnetrão: Magnetrão Titan da PVD Products com um diâmetro de alvo de 5 cm, funcionando nos modos DC (400 W máx.) ou RF (300 W máx.) a pressões de 0,5 mTorr a 1 Torr.
Fonte de iões: Fonte de iões Veeco de 3 cm com grelhas de focagem, neutralizador, energia de feixe de 50-1200 eV e corrente máxima de 100 mA.
Sistema de vácuo:
Câmara de vácuo com flanges para acessórios (por exemplo, espetroscopia, canhão de iões). Inclui uma sonda de vácuo Pfeiffer arrefecida a água, uma bomba turbo (250 l/s, 60.000 RPM) e uma bomba rotativa.
Medidores de vácuo: InstruTech Convectron (atmosférico até 10^-3 Torr) e Hornet Bayard-Alpert (até 10^-9 Torr).
Medidor de fluxo digital MKS (50 sccm) calibrado para oxigénio com fecho manual.
Caraterísticas ópticas e de manipulação:
Percurso ótico fixo com comprimento de onda de 248 nm, espelhos HR de 2 polegadas e ângulo de incidência do laser de 60° para reduzir a contaminação.
Manipulador de alvo de três posições (3" ou 6 x 2", espessura máxima de 6 mm) com seleção computorizada e rotação até 50 RPM.
Manuseamento do substrato:
Aquecedor de substrato (6000°C máx.) com revestimento arrefecido a água. Distância alvo-substrato: 75 mm.
Escotilha programável para troca de amostras com suporte motorizado do eixo Z (curso de 2") e bomba turbo (70 l/s, 90.000 RPM). Pressão de base: < 5 x 10^-8 Torr.
Caraterísticas adicionais:
Sistema de janela inteligente Nano PLD IW com um disco de vidro de quartzo e divisor de feixe para uma limpeza alargada do percurso ótico.
Pirómetro ótico (gama espetral de 0,78-1,06 μm) para monitorização da temperatura do substrato (500-2000°C).
Medidores de fluxo de massa, refrigerador de água, compressor de ar e conjunto de substrato rotativo (até 40 RPM) para deposição uniforme de película.

Observe que esta descrição pode ter sido traduzida automaticamente. Contate-nos para mais informações. As informações deste anúncio classificado são apenas indicativas. Exapro recomenda verificar os detalhes com o vendedor antes de comprar


pvd-products-usa-nano-pld-1000-p241126370_3.pdf Download
Tipo de cliente Usuário - PME
Ativo Desde 2024
Ofertas on-line 2
Ultima atividade 30 de Dezembro de 2024

Descrição

O sistema Nano PLD-1000 é um instrumento de deposição a laser totalmente integrado para películas multicamadas em substratos de até 2 polegadas de diâmetro. Utiliza três fontes de energia: o laser PhysikCOMPex PRO 110 Coherent Lambda, uma fonte de dispersão magnetrónica e a fonte de iões Veeco de 3 cm.

Principais componentes e especificações:
Sistema de laser: Laser excimer PhysikCOMPex PRO 110 Lambda (248 nm, KrF) com tecnologia de tubo cerâmico, velocidade de repetição de até 100 Hz e 20 MWatts/pulso.
Fonte de magnetrão: Magnetrão Titan da PVD Products com um diâmetro de alvo de 5 cm, funcionando nos modos DC (400 W máx.) ou RF (300 W máx.) a pressões de 0,5 mTorr a 1 Torr.
Fonte de iões: Fonte de iões Veeco de 3 cm com grelhas de focagem, neutralizador, energia de feixe de 50-1200 eV e corrente máxima de 100 mA.
Sistema de vácuo:
Câmara de vácuo com flanges para acessórios (por exemplo, espetroscopia, canhão de iões). Inclui uma sonda de vácuo Pfeiffer arrefecida a água, uma bomba turbo (250 l/s, 60.000 RPM) e uma bomba rotativa.
Medidores de vácuo: InstruTech Convectron (atmosférico até 10^-3 Torr) e Hornet Bayard-Alpert (até 10^-9 Torr).
Medidor de fluxo digital MKS (50 sccm) calibrado para oxigénio com fecho manual.
Caraterísticas ópticas e de manipulação:
Percurso ótico fixo com comprimento de onda de 248 nm, espelhos HR de 2 polegadas e ângulo de incidência do laser de 60° para reduzir a contaminação.
Manipulador de alvo de três posições (3" ou 6 x 2", espessura máxima de 6 mm) com seleção computorizada e rotação até 50 RPM.
Manuseamento do substrato:
Aquecedor de substrato (6000°C máx.) com revestimento arrefecido a água. Distância alvo-substrato: 75 mm.
Escotilha programável para troca de amostras com suporte motorizado do eixo Z (curso de 2") e bomba turbo (70 l/s, 90.000 RPM). Pressão de base: < 5 x 10^-8 Torr.
Caraterísticas adicionais:
Sistema de janela inteligente Nano PLD IW com um disco de vidro de quartzo e divisor de feixe para uma limpeza alargada do percurso ótico.
Pirómetro ótico (gama espetral de 0,78-1,06 μm) para monitorização da temperatura do substrato (500-2000°C).
Medidores de fluxo de massa, refrigerador de água, compressor de ar e conjunto de substrato rotativo (até 40 RPM) para deposição uniforme de película.

Observe que esta descrição pode ter sido traduzida automaticamente. Contate-nos para mais informações. As informações deste anúncio classificado são apenas indicativas. Exapro recomenda verificar os detalhes com o vendedor antes de comprar

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-------------------
Horas trabalhadas
Horas sob energia
Estado excelente
Nas normas locais ---------
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Tipo de cliente Usuário - PME
Ativo Desde 2024
Ofertas on-line 2
Ultima atividade 30 de Dezembro de 2024

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