Категории
Начните продавать

Счет

Войти
Создайте аккаунт

Счет

Войти
Создайте аккаунт
PVD Products, USA NANO PLD 1000 P241126370
PVD Products, USA NANO PLD 1000 P241126370
PVD Products, USA NANO PLD 1000 P241126370
PVD Products, USA NANO PLD 1000 P241126370

PVD Products, USA NANO PLD 1000 Оборудование для полупроводников Проверенный продавец

Цена по запросу

Сделайте предложение
Производитель PVD Products, USA
Модель NANO PLD 1000
Год выпуска 2014
Местонахождение Румыния RO
Категория Полупроводники - Различное
ID номер P241126370
Язык
bg Полупроводникова машина PVD Products, USA NANO PLD 1000
cs Polovodičový stroj PVD Products, USA NANO PLD 1000
da PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halvleder maskine
de PVD Products, USA NANO PLD 1000 Sondere Halbleiter Maschine
el Μηχανή ημιαγωγών PVD Products, USA NANO PLD 1000
en Laser Ablation Thin Film Deposition System
es Máquina semiconductor PVD Products, USA NANO PLD 1000
fr Equipement de semi-conducteur PVD Products, USA NANO PLD 1000
hr Poluvodički stroj PVD Products, USA NANO PLD 1000
hu PVD Products, USA NANO PLD 1000 Félvezető gép
it Macchina di semiconduttori PVD Products, USA NANO PLD 1000
lt Puslaidininkinė mašina PVD Products, USA NANO PLD 1000
nl PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halfgeleidermachine
pl Maszyna do półprzewodników PVD Products, USA NANO PLD 1000
pt Máquina semicondutora PVD Products, USA NANO PLD 1000
ro Mașină cu semiconductor PVD Products, USA NANO PLD 1000
ru PVD Products, USA NANO PLD 1000 Оборудование для полупроводников
sr Poluprovodnička mašina PVD Products, USA NANO PLD 1000
sv PVD Products, USA NANO PLD 1000 Halvledarmaskin
tr Yarı İletken Makinası PVD Products, USA NANO PLD 1000

Детальная информация

-------------------
Часы наработки
Часы включения
Состояние в отличном состоянии
Маркировка CE ---------
Статус в производстве

описание

Система Nano PLD-1000 - это полностью интегрированный прибор для лазерного осаждения многослойных пленок на подложки диаметром до 2 дюймов. В ней используются три источника энергии: когерентный лямбда-лазер PhysikCOMPex PRO 110, источник магнетронного рассеяния и источник ионов Veeco 3 см.

Основные компоненты и технические характеристики:
Лазерная система: Эксимерный лазер PhysikCOMPex PRO 110 Lambda (248 нм, KrF) с технологией керамической трубки, скоростью повторения до 100 Гц и мощностью 20 МВт/импульс.
Источник магнетрона: Магнетрон PVD Products Titan с диаметром мишени 5 см, работающий в режимах DC (400 Вт макс.) или RF (300 Вт макс.) при давлении от 0,5 мТорр до 1 Торр.
Источник ионов: Ионный источник Veeco диаметром 3 см с фокусирующими решетками, нейтрализатором, энергией пучка 50-1200 эВ и максимальным током 100 мА.
Вакуумная система:
Вакуумная камера с фланцами для подключения аксессуаров (например, спектроскопии, ионной пушки). Включает водоохлаждаемый вакуумный зонд Pfeiffer, турбонасос (250 л/с, 60 000 об/мин) и роторный насос.
Вакуумные манометры: InstruTech Convectron (атмосферный до 10^-3 Торр) и Hornet Bayard-Alpert (до 10^-9 Торр).
Цифровой расходомер MKS (50 куб. м), откалиброванный для кислорода, с ручным отключением.
Оптические и манипуляционные функции:
Фиксированный оптический тракт с длиной волны 248 нм, 2-дюймовые зеркала HR и угол падения лазера 60° для уменьшения загрязнения.
Трехпозиционный манипулятор мишени (3" или 6 x 2", максимальная толщина 6 мм) с компьютерным выбором и вращением до 50 об/мин.
Обработка субстрата:
Нагреватель субстрата (6000°C макс.) с водяным охлаждением покрытия. Расстояние между подложкой и образцом: 75 мм.
Программируемый люк для смены образцов с моторизованным кронштейном по оси Z (ход 2") и турбонасосом (70 л/с, 90 000 об/мин). Базовое давление: < 5 x 10^-8 Торр.
Дополнительные функции:
Система Nano PLD IW Intelligent Window с диском из кварцевого стекла и делителем луча для увеличения чистоты оптического пути.
Оптический пирометр (спектральный диапазон 0,78-1,06 мкм) для контроля температуры подложки (500-2000°C).
Расходомеры, охладитель воды, воздушный компрессор и вращающийся узел подложки (до 40 об/мин) для равномерного осаждения пленки.

Данное описание может быть переведено автоматически. Свяжитесь с нами для получения дополнительной информации. Информация в данном объявлении носит ориентировочный характер. Мы рекомендуем перед покупкой станка уточнять детали у продавца.


pvd-products-usa-nano-pld-1000-p241126370_3.pdf Скачать
Тип клиента Конечный потребитель
Активный с 2024
Предложения онлайн 2
Последняя активность 26 ноября 2024 г.

Описание

Система Nano PLD-1000 - это полностью интегрированный прибор для лазерного осаждения многослойных пленок на подложки диаметром до 2 дюймов. В ней используются три источника энергии: когерентный лямбда-лазер PhysikCOMPex PRO 110, источник магнетронного рассеяния и источник ионов Veeco 3 см.

Основные компоненты и технические характеристики:
Лазерная система: Эксимерный лазер PhysikCOMPex PRO 110 Lambda (248 нм, KrF) с технологией керамической трубки, скоростью повторения до 100 Гц и мощностью 20 МВт/импульс.
Источник магнетрона: Магнетрон PVD Products Titan с диаметром мишени 5 см, работающий в режимах DC (400 Вт макс.) или RF (300 Вт макс.) при давлении от 0,5 мТорр до 1 Торр.
Источник ионов: Ионный источник Veeco диаметром 3 см с фокусирующими решетками, нейтрализатором, энергией пучка 50-1200 эВ и максимальным током 100 мА.
Вакуумная система:
Вакуумная камера с фланцами для подключения аксессуаров (например, спектроскопии, ионной пушки). Включает водоохлаждаемый вакуумный зонд Pfeiffer, турбонасос (250 л/с, 60 000 об/мин) и роторный насос.
Вакуумные манометры: InstruTech Convectron (атмосферный до 10^-3 Торр) и Hornet Bayard-Alpert (до 10^-9 Торр).
Цифровой расходомер MKS (50 куб. м), откалиброванный для кислорода, с ручным отключением.
Оптические и манипуляционные функции:
Фиксированный оптический тракт с длиной волны 248 нм, 2-дюймовые зеркала HR и угол падения лазера 60° для уменьшения загрязнения.
Трехпозиционный манипулятор мишени (3" или 6 x 2", максимальная толщина 6 мм) с компьютерным выбором и вращением до 50 об/мин.
Обработка субстрата:
Нагреватель субстрата (6000°C макс.) с водяным охлаждением покрытия. Расстояние между подложкой и образцом: 75 мм.
Программируемый люк для смены образцов с моторизованным кронштейном по оси Z (ход 2") и турбонасосом (70 л/с, 90 000 об/мин). Базовое давление: < 5 x 10^-8 Торр.
Дополнительные функции:
Система Nano PLD IW Intelligent Window с диском из кварцевого стекла и делителем луча для увеличения чистоты оптического пути.
Оптический пирометр (спектральный диапазон 0,78-1,06 мкм) для контроля температуры подложки (500-2000°C).
Расходомеры, охладитель воды, воздушный компрессор и вращающийся узел подложки (до 40 об/мин) для равномерного осаждения пленки.

Данное описание может быть переведено автоматически. Свяжитесь с нами для получения дополнительной информации. Информация в данном объявлении носит ориентировочный характер. Мы рекомендуем перед покупкой станка уточнять детали у продавца.

Детальная информация

-------------------
Часы наработки
Часы включения
Состояние в отличном состоянии
Маркировка CE ---------
Статус в производстве

Об этом продавце

Тип клиента Конечный потребитель
Активный с 2024
Предложения онлайн 2
Последняя активность 26 ноября 2024 г.

Вот выбор подобных станков

Посмотреть все варианты

Загрузка похожих предложений...

Категории

Меню Категории Поиск

Меню

Начните продавать

PVD Products, USA NANO PLD 1000 Оборудование для полупроводников