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Wir stellen den WEST BOND 7374B Drahtbonder vor: - Hersteller: WEST BOND - Modell: 7374B - Technischer Zustand: Gut - Zustand: Sichtbar - Beschreibung: Beam Lead Diode Bonder - Jahr der Herstellung: Nicht angegeben - Ungefähres Herstellungsjahr: Nein Dieses zuverlässige Gerät ist ideal für Drahtbondanwendungen. Sie befindet sich in einem guten technischen Zustand und ist augenscheinlich gut gewartet. Der WEST …Baujahr:
KOMPLETTE THERMOBONDING-MASCHINE: Unipulse-Schweißtransformator Unitek Equipment Mod 9-021-02. Leichtkraftschweißkopf (Marke: Unitek Miyachi Mod 2-162-01-02). Phasemaster Unitek Miyachi 1-230-04-03 Impulszählkübler Mod R-102Baujahr:
WEST BOND, Modell Nr. 7200-44-A-45C – Die Bonder zum Auftragen von EpoxidharzBaujahr:
Thermoklebemaschinen (nur Ersatzteile) DrahtbonderBaujahr:
Das Kontaktwinkelmessgerät gibt Auskunft über die Adhäsionsenergie der Festkörperoberfläche und die Oberflächenspannung des Tropfens. Es ist weithin für die Analyse von Materialoberflächen im Hinblick auf Benetzung, Adhäsion und Absorption anerkannt. Es wird verwendet, um das Vorhandensein von Filmen, Beschichtungen oder Verunreinigungen zu erkennen, deren Oberflächenenergie sich von der des darunter liegenden Substrats unterscheidet. Es ist nützlich in der Halbleiterindustrie, Grenzflächenchemie, …Baujahr:
DYNAPERT Emhart 200 Axialeinsteckmaschine 220 V 50 HzBaujahr:
DAGE MICROTESTER Drahtbond-Zug-/Scherprüfgerät Modell BT22Baujahr:
Der EDB65 ist ein benutzerfreundlicher, zuverlässiger manueller Bonder, der eine hohe Platzierungsgenauigkeit für alle Laboranwendungen, Prototypen, Vorproduktionen und begrenzte Produktionsarbeiten gewährleistet. Es lässt sich schnell für alle gängigen Halbleitergehäuse umkonfigurieren und arbeitet im manuellen Modus mit bis zu 300 Einheiten pro Stunde. HANDHABUNG UND PLATZIERUNG DER Matrizen: Die Belastung des Matrizenaufnahmekopfs ist einstellbar, sodass sehr niedrige Belastungen für kleine, zerbrechliche …Baujahr:
Der EDB65 ist ein benutzerfreundlicher, zuverlässiger manueller Bonder, der eine hohe Platzierungsgenauigkeit für alle Laboranwendungen, Prototypen, Vorproduktionen und begrenzte Produktionsarbeiten gewährleistet. Es lässt sich schnell für alle gängigen Halbleitergehäuse umkonfigurieren und arbeitet im manuellen Modus mit bis zu 300 Einheiten pro Stunde. HANDHABUNG UND PLATZIERUNG DER Matrizen: Die Belastung des Matrizenaufnahmekopfs ist einstellbar, sodass sehr niedrige Belastungen für kleine, zerbrechliche …Baujahr: 1994
Drahtquerschnitt, mehrdrähtig 0,14 - 6mm² (AWG 25 - 10) Drahtdurchmesserbereich, eindrähtig 0,14 - 2,0mm² (AWG 25 - 14) Äußerer Drahtdurchmesser max. 6mm Abzugslänge max. 1. Seite 30mm Abzugslänge max. 2. Seite 100mm Programmierbare Gesamtlänge 10 mm - 100 m Vorschubgeschwindigkeit 0 - 60 m/min, stufenlos einstellbar inkl. Drucker LeibingerBaujahr:
Modell: 600 Halbautomatisch - Halbautomatische RF-Plasmaanlage - Kann bis zu 200mm-Wafer bearbeiten - Wird zum Ablösen von Fotolack und zur Oberflächenreinigung sowie zum Ätzen von Silizium und dessen Verbindungen verwendet - Kammergröße: 245mm Durchmesser, 380mm Tiefe - Kammermaterial: Keramik - ENI RF-Generator: 0-600 Watt, 13,56 MHz - Gase: 4 Kanäle, gesteuert durch 4 MFCs - Leybold D65B Vakuumpumpe - Abmessungen: …Baujahr: 1995
Modell: JETFIRST 100 -RTP Kategorie: RTP - Schnelle thermische Verarbeitung Original Equipment Hersteller: Jipelec Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Standort: U.S.A. Installation und Schulung: Gegen Aufpreis erhältlich.Baujahr: 1987
Modell: Branson/IPC 3000,2000,4000 Serie Kategorie: Plasma-Ascher, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: Branson/IPC Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Standort: U.S.A. Installation und Schulung: Gegen Aufpreis erhältlich.Baujahr: 1996
Modell: PlasmaLab 80 Plus,PECVD Plasmalab 80+ DPCVD Kategorie: PECVD, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: Oxford,PlasmaLab Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Standort: U.S.A. Installation und Schulung: Gegen Aufpreis erhältlich.Baujahr: 2000
AnnealSys AS-One Rapid Thermal Processor. Einheit verwendet wird. niedrige Stunde, saubere super Zustand. 4 Zoll. Rapid Thermal Processing Öfen für die Entwicklung von schnellen thermischen Glüh- und CVD-Prozessen Wafer Größe: Bis zu 4 Zoll. Modell: AnnealSys AS-One Kategorie: RTP - Schnelle thermische Verarbeitung Original Equipment Hersteller: AnnealSys Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Standort: U.S.A. Installation und Schulung: Gegen …Baujahr:
200mm LPCVD-Ofen Rohr 1: TEOS/Blech Rohr 2: Nitrid/Poly, Gasanschlüsse: Luft niedrig N2, N2, FG1, Ar, O2, SiH2Cl2(DCS), SiH4, NH3 2 Kashiyama Vakuumpumpen mit Gebläse Schumacher M-Dot Dotierstoffquellensteuerung Abmessungen des Ofens: 66x36x78 Gasmodul Abmaße: 18x36x78 Strombedarf: 480 V, max. 250 ABaujahr: 2016
Funktionsweise | andere |
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Baujahr: 1985
Modell: Technics 2000, Technics PE-IIA Kategorie: Plasma-Ascher, Halbleiter-Prozessanlagen Original Equipment Hersteller: Technics Zustand: Vollständig überholt und vom Verkäufer getestet Standort: U.S.A. Installation und Schulung: Gegen Aufpreis erhältlich.