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Baujahr: 2002
Baujahr:
Mitutoyo-Mikroskop 1064nm gepulster YAG-Laser Manueller Prober Alessi 4100 mit 150-mm-Vakuumspannvorrichtung und Objektiv APO 10XBaujahr:
Der RA 120M ermöglicht das Ritzen von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 4 Zoll (102 mm) und Substraten mit einer Größe von bis zu 4 Zoll (102 mm) im Quadrat. Zwei unabhängige Ritzachsen sind für maximale Vielseitigkeit separat programmierbar. Die Parameter können entweder in Mikron oder in Mils eingegeben werden. (Der Zoll- oder metrische Modus wird vor dem …Baujahr: 2000
Überholter Asyst Versaport 2200 Indexer Es kann sowohl für Maskenkassetten als auch für Waferkassetten verwendet werden. Dieser Indexer verfügt über 2 EPROM-Chips. 1. EPROM verfügt über die Firmware für Maskenkassetten (derzeit installiert) 2. EPROM enthält die Firmware für Wafer-Kassetten (im Ersatz) Konfiguration: 8-Zoll-Kassette Bolzenrückplatte Unterstützung für RFID-Smart-Tags Der Benutzer muss lediglich die Sensorparameter über ISIM anpassen, um mit Ihren Kassetten …Baujahr: 2005
Baujahr:
letzte vorbeugende Wartung durchgeführt am 17.12.2020 Präzisionssäge für Siliziumwafer und dünne Substrate bis zu 200 mm Durchmesser geeignet für 2"/3" Naben- oder Ringklingen Bürstenloser luftgelagerter DC-Motor mit 60.000 U/min und 1,2 kW 0,2u Auflösung Vorschubgeschwindigkeit bis zu 350mm/s Sensor für die Aufsetzhöhe der Klinge Matrox Vision-System mit Autofokus und automatischer Beleuchtung 2x-8x-Zoom Wiederholgenauigkeit der Drehachse von 2 Bogensekunden 200-240v, 50/60hz …Baujahr:
SSEC CLEAN 3300 MODELL: M3302 208 VAC, 3PH, 60Hz, 30 AMP Herstellungsdatum: 8/30/05 AC Dwg Nr. 330i1712 1) der Wafer wird in das Lösungsmittelgemisch getaucht (sog. Tauchreinigung) 2) Es erfolgt eine Bearbeitung mit Sprühlösungsmitteln (sog. Fan Spray Processing) und eine Stickstofftrocknung. Die Anlage verfügt über ein sogenanntes Dry-in/Dry-out-System (trockene Wafer rein/ trockene Wafer raus). Die TSV-Reinigung nach dem DRIE-Ätzen ist …Baujahr:
Versand Waffelhärteofen Typ D40B Zustand: Gebraucht Marke: Despatch Modell: Typ D40B Enthält: (1) Gebrauchter Despatch Waffelhärteofen Typ D40B Despatch Wafer Curing Oven zu verkaufen (gebraucht) MAX.BETRIEBSTEMP. 280 ͦ C Heizung Typ: Elektrisch LEYBOLD TRIVAC Vakuum Typ D40B FABR. Zu verkaufen: Despatch Wafer Curing Oven Typ D40B (Gebraucht). Verkauft "wie es ist, wo es ist". Wir haben nicht die Möglichkeit, alle …Baujahr:
SSEC Evergreen Serie II Photoresist-Wafer-Ätzer Zustand: Gebraucht Marke: SSEC Modell: Evergreen Serie II Enthält: (1) Gebrauchte SSEC Evergreen Serie II Photoresist Wafer Etcher Chemikalienlager Wafer-Transferkabinett Transfer-Kabinett Rostfreier Stahl Rückkühler X 2 Pumpe/Kühler Modell # LG.HPC Solid State Equipment (SSEC) Evergreen Serie II Modell 203 Photoresist Wafer Etcher garantiert vollständiges und komplettes System. Eingerichtet für 6"-Wafer. Zu verkaufen: SSEC Evergreen Serie …Baujahr:
SVG Dual Track Develop System Zustand: Gebraucht - Eingerichtet für bis zu 6" Wafer - Steuergerät Modell #8132 CTD/ 8136 HPO Verkauft "wie es ist, wo es ist". Wir haben nicht die Möglichkeit, alle Geräte zu testen. Dieses System wurde in funktionierendem, betriebsbereitem Zustand deinstalliert.Baujahr:
KARL SUSS MASKE ALIGNER MA56 Beschreibung: Der MA 56 von Karl Suss ist ein Maskenausrichtungs- und Belichtungssystem, das hochgradig ökologische Produktionsmöglichkeiten für Wafer bis zu 125 mm bietet. Er ist einfach zu warten und kann leicht an Ihre speziellen Prozessanforderungen angepasst werden.Baujahr:
Halbautomatisches Karl Suss PA-200-Sondensystem mit Karl Suss PH250HF-Sonden-XYZ-Kopf und -Arm sowie anderem Zubehör Karl Suss PA 200 mit Antivibrationstisch, einschließlich 3 Einheiten manueller Karl Suss-Hochfrequenz-Probenköpfe (PH250HF) mit Sondenarm und Sondenkopf sowie 1 Ersatzeinheit XYZ Edmund Optic Micro Positioners. BESCHREIBUNG Das SÜSS PA200 Semiautomatic Probe System ist ein sehr stabiles, modulares und flexibles Sondensystem für Wafer und Substrate bis 200 mm …