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Año: 1994
Todas las especificaciones y la información están sujetas a cambios sin previo aviso y no podrían utilizarse para la compra y el plan de instalación. Por favor, compruebe la información actualizada en nuestro sitio web antes de comprar. Le agradecemos su tiempo. Modelo: PlasmaTherm 790 Categoría: Plasma Etcher, Equipos de proceso de semiconductores Fabricante de equipo original: PlasmaTherm Estado: Totalmente …Año: 2007
Modelo: SAVANNAH S200-ALD SISTEMA DE DEPOSICIÓN DE CAPAS ATÓMICAS Categoría: SISTEMA DE DEPOSICIÓN DE CAPAS ATÓMICAS ,equipos de proceso de semiconductores Fabricante de equipo original: SAVANNAH,CAMBRIDGE NANOTECH , Veeco Cambridge Nanotech Ultratech Estado: Completo, funcionando y Probado por el vendedor Ubicación: U.S.A. Instalación y formación: Disponible con cargo adicional.Año: 1995
Todas las especificaciones y la información están sujetas a cambios sin previo aviso y no podrían utilizarse para la compra y el plan de instalación. Por favor, compruebe la información actualizada en nuestro sitio web antes de comprar. Le agradecemos su tiempo. Modelo: Matrix 303, Matrix 302 Categoría: Plasma Etcher, Equipos de proceso de semiconductores Fabricante de equipo original: Matrix …Año:
Fuente de alimentación RF RFX600 de 13,56 mhz de Advanced Energy 1 estante de tierra y 1 estante alimentado Bomba de vacío LeyboldAño:
Dimensión 3100 AFM Área de imagen X-Y aprox. 90um cuadradas Rango Z aprox. 6um hasta 150 mm de tamaño de muestra Controlador nanoscope IIIa Mesa de aislamiento acústico de vibraciones integradaAño:
Máquina de lacado rotativo con sistema GYRSET para una mayor uniformidad y un menor consumo de resina Cambio rápido Gyrset brazo dispensador motorizado y programable max 200mm oblea o 6 "x6" sustrato cuadrado Armario base inoxidable Aceleración máxima de 5000 rpm/seg brazo dispensador motorizado capacidad de dispensación múltiple para hasta 2 fotorresistencias Fuente de alimentación Cybor 512 con controlador 505 …Año: 1995
Modelo: MPT RTP-3000 Categoría: RTP - Procesado Térmico Rápido Equipo Original Fabricantes: MPT Estado: Totalmente reacondicionado y probado por el vendedor Localización: U.S.A. Instalación y formación: Disponible con cargo adicional.Año: 1995
Todas las especificaciones y la información están sujetas a cambios sin previo aviso y no podrían utilizarse para la compra y el plan de instalación. Por favor, compruebe la información actualizada en nuestro sitio web antes de comprar. Le agradecemos su tiempo. Modelo: AST Barril Asher Categoría: Plasma Asher, Equipos de proceso de semiconductores Fabricante de equipo original: AST,Advanced Surface …Año:
Controlado por PLC, ofrece una lectura en tiempo real en inglés de los parámetros de funcionamiento del sistema, así como medidas correctoras en caso de fallo. Plasma activo para la limpieza rutinaria de superficies de muestras Plasma RIE para la limpieza agresiva de muestras no sensibles a ESD Plasma libre de electrones para la limpieza de componentes electrónicos sensibles. El …Año:
Generador ENI ACG10B 1200W Rf 13.56mhz 2 estantes alimentados Controladores de flujo Porter Masss: 1000 SCCM N2 500 SCCM N2Año:
208v, 3 fases, 50/60hz, 20 amperios Estado excepcional: El barril de cuarzo no muestra signos de grabado ni de uso Fuente de alimentación Seren 600 watt Rf 13.56mhz Caja externa de distribución de energía y contactor montada en la pared con EFOAño:
Cámara de vacío 340 x 400 x 450mm Puerta con desbloqueo automático al final del proceso Magnetrón de excitación por microondas de 2,45GHz, potencia máxima ajustada de 1200W 3 canales de gas con Brooks MFC: N2, Ar, O2 Potencia requerida 120/208v Bomba de vacío Pfeiffer DUO65C con aceite Fomblin (PFPE) Manómetro: Transductor absoluto Baratron Controlador de proceso PLC con RS232Año:
Cámara de vacío 340 x 400 x 450mm Puerta con desbloqueo automático al finalizar el proceso Magnetrón de excitación por microondas de 2,45GHz, potencia máxima ajustada de 1200W 3 canales de gas con Brooks MFC: N2, Ar, O2 Bomba de vacío Pfeiffer DUO65C con aceite Fomblin (PFPE) Manómetro: Transductor absoluto Baratron Controlador de proceso PLC con RS232 Alimentación: 230/400 V …Año:
Cámara interior: 12 "w x 13.25 "d x 12 "h (2) Controladores de temperatura PID 25-200ºC Controlador lógico PLD con pantalla táctil Vacuómetro digital Granville-Phillips Recipiente HMDS de llenado por sifón de gran capacidad y montaje lateral con vacuómetro montado en el recipiente Los enclavamientos de vacío y presión garantizan la integridad del proceso y el control de la presión …Año: 1995
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Todas las especificaciones y la información están sujetas a cambios sin previo aviso y no podrían utilizarse para la compra y el plan de instalación. Por favor, compruebe la información actualizada en nuestro sitio web antes de comprar. Le agradecemos su tiempo. Modelo: SPTS STS Multiplex ICP HRM Categoría: Grabador de plasma, Equipos de proceso de semiconductores Equipo original Fabricantes: …