PlasmaTherm 790 RIE Plasma Etcher semiconductor process equipment, front end.

Año: 1994

Todas las especificaciones y la información están sujetas a cambios sin previo aviso y no podrían utilizarse para la compra y el plan de instalación. Por favor, compruebe la información actualizada en nuestro sitio web antes de comprar. Le agradecemos su tiempo. Modelo: PlasmaTherm 790 Categoría: Plasma Etcher, Equipos de proceso de semiconductores Fabricante de equipo original: PlasmaTherm Estado: Totalmente …

SISTEMA DE DEPOSICIÓN DE CAPAS ATÓMICAS SAVANNAH S200-ALD

Año: 2007

Modelo: SAVANNAH S200-ALD SISTEMA DE DEPOSICIÓN DE CAPAS ATÓMICAS Categoría: SISTEMA DE DEPOSICIÓN DE CAPAS ATÓMICAS ,equipos de proceso de semiconductores Fabricante de equipo original: SAVANNAH,CAMBRIDGE NANOTECH , Veeco Cambridge Nanotech Ultratech Estado: Completo, funcionando y Probado por el vendedor Ubicación: U.S.A. Instalación y formación: Disponible con cargo adicional.

Matrix 303, Matrix 302 Equipo de grabado por plasma para semiconductores

Año: 1995

Todas las especificaciones y la información están sujetas a cambios sin previo aviso y no podrían utilizarse para la compra y el plan de instalación. Por favor, compruebe la información actualizada en nuestro sitio web antes de comprar. Le agradecemos su tiempo. Modelo: Matrix 303, Matrix 302 Categoría: Plasma Etcher, Equipos de proceso de semiconductores Fabricante de equipo original: Matrix …

Martillo pilón March PX500

Año:

Fuente de alimentación RF RFX600 de 13,56 mhz de Advanced Energy 1 estante de tierra y 1 estante alimentado Bomba de vacío Leybold

Cizalla guillotina hidráulica Digital Instruments D3100AFM

Año:

Dimensión 3100 AFM Área de imagen X-Y aprox. 90um cuadradas Rango Z aprox. 6um hasta 150 mm de tamaño de muestra Controlador nanoscope IIIa Mesa de aislamiento acústico de vibraciones integrada

Equipo de recubrimiento de tabletas Suss RC8-MS3

Año:

Máquina de lacado rotativo con sistema GYRSET para una mayor uniformidad y un menor consumo de resina Cambio rápido Gyrset brazo dispensador motorizado y programable max 200mm oblea o 6 "x6" sustrato cuadrado Armario base inoxidable Aceleración máxima de 5000 rpm/seg brazo dispensador motorizado capacidad de dispensación múltiple para hasta 2 fotorresistencias Fuente de alimentación Cybor 512 con controlador 505 …

MPT RTP-3000 Equipo de procesado térmico rápido

Año: 1995

Modelo: MPT RTP-3000 Categoría: RTP - Procesado Térmico Rápido Equipo Original Fabricantes: MPT Estado: Totalmente reacondicionado y probado por el vendedor Localización: U.S.A. Instalación y formación: Disponible con cargo adicional.

AST Barrel Asher Plasma Asher Descum equipos de proceso de semiconductores, front end.

Año: 1995

Todas las especificaciones y la información están sujetas a cambios sin previo aviso y no podrían utilizarse para la compra y el plan de instalación. Por favor, compruebe la información actualizada en nuestro sitio web antes de comprar. Le agradecemos su tiempo. Modelo: AST Barril Asher Categoría: Plasma Asher, Equipos de proceso de semiconductores Fabricante de equipo original: AST,Advanced Surface …

Máquina de corte por plasma / gas Glen Technologies R3A

Año:

Controlado por PLC, ofrece una lectura en tiempo real en inglés de los parámetros de funcionamiento del sistema, así como medidas correctoras en caso de fallo. Plasma activo para la limpieza rutinaria de superficies de muestras Plasma RIE para la limpieza agresiva de muestras no sensibles a ESD Plasma libre de electrones para la limpieza de componentes electrónicos sensibles. El …

Máquina de corte por plasma / gas March PX1000

Año:

Generador ENI ACG10B 1200W Rf 13.56mhz 2 estantes alimentados Controladores de flujo Porter Masss: 1000 SCCM N2 500 SCCM N2

Máquina de electroerosión por penetración PVA Tepla 9204

Año:

208v, 3 fases, 50/60hz, 20 amperios Estado excepcional: El barril de cuarzo no muestra signos de grabado ni de uso Fuente de alimentación Seren 600 watt Rf 13.56mhz Caja externa de distribución de energía y contactor montada en la pared con EFO

Contenedor - tanque de fusión Plasmafinish V55-G

Año:

Cámara de vacío 340 x 400 x 450mm Puerta con desbloqueo automático al final del proceso Magnetrón de excitación por microondas de 2,45GHz, potencia máxima ajustada de 1200W 3 canales de gas con Brooks MFC: N2, Ar, O2 Potencia requerida 120/208v Bomba de vacío Pfeiffer DUO65C con aceite Fomblin (PFPE) Manómetro: Transductor absoluto Baratron Controlador de proceso PLC con RS232

Contenedor - tanque de fusión Plasmafinish V55-G

Año:

Cámara de vacío 340 x 400 x 450mm Puerta con desbloqueo automático al finalizar el proceso Magnetrón de excitación por microondas de 2,45GHz, potencia máxima ajustada de 1200W 3 canales de gas con Brooks MFC: N2, Ar, O2 Bomba de vacío Pfeiffer DUO65C con aceite Fomblin (PFPE) Manómetro: Transductor absoluto Baratron Controlador de proceso PLC con RS232 Alimentación: 230/400 V …

Horno de cebado de vapor HMDS 3TA de Yield Engineering

Año:

Cámara interior: 12 "w x 13.25 "d x 12 "h (2) Controladores de temperatura PID 25-200ºC Controlador lógico PLD con pantalla táctil Vacuómetro digital Granville-Phillips Recipiente HMDS de llenado por sifón de gran capacidad y montaje lateral con vacuómetro montado en el recipiente Los enclavamientos de vacío y presión garantizan la integridad del proceso y el control de la presión …

Gasonics L3510 Plasma Asher Descum equipo de proceso de semiconductores, frontal.

Año: 1995

Todas las especificaciones y la información están sujetas a cambios sin previo aviso y no podrían utilizarse para la compra y el plan de instalación. Por favor, compruebe la información actualizada en nuestro sitio web antes de comprar. Le agradecemos su tiempo. Modelo: Gasonics L3510 Categoría: Plasma Asher, Equipos de proceso de semiconductores Fabricante de equipo original: Gasonics Estado: Totalmente …

Gasonics Aura 2000LL Plasma Asher Descum equipos de proceso de semiconductores, front-end.

Año: 1995

Todas las especificaciones y la información están sujetas a cambios sin previo aviso y no podrían utilizarse para la compra y el plan de instalación. Por favor, compruebe la información actualizada en nuestro sitio web antes de comprar. Le agradecemos su tiempo. Modelo: Gasonics Aura 2000LL Categoría: Plasma Asher, Equipos de proceso de semiconductores Fabricante de equipo original: Gasonics Condición: …

Procesador térmico rápido Heatpulse 8108 de AG Associates

Año: 1995

Todas las especificaciones y la información están sujetas a cambios sin previo aviso y no podrían utilizarse para la compra y el plan de instalación. Por favor, compruebe la información actualizada en nuestro sitio web antes de comprar. Le agradecemos su tiempo. Modelo: Heatpulse 8108 Categoría: RTP - Procesamiento Térmico Rápido Fabricante de equipo original: AG Associates Condición:Totalmente reacondicionado y …

Procesador térmico rápido AG Associates Heatpulse 4100

Año: 1995

Todas las especificaciones y la información están sujetas a cambios sin previo aviso y no podrían utilizarse para la compra y el plan de instalación. Por favor, compruebe la información actualizada en nuestro sitio web antes de comprar. Le agradecemos su tiempo. Modelo: Heatpulse 4100 Categoría: RTP - Procesado Térmico Rápido Fabricante del equipo original: AG Associates Condición:Totalmente reacondicionado y …

Camalot 3800 Dispenser

Año:

Funcionalidad otro

SPTS STS Multiplex ICP HRM

Año: 2005

Todas las especificaciones y la información están sujetas a cambios sin previo aviso y no podrían utilizarse para la compra y el plan de instalación. Por favor, compruebe la información actualizada en nuestro sitio web antes de comprar. Le agradecemos su tiempo. Modelo: SPTS STS Multiplex ICP HRM Categoría: Grabador de plasma, Equipos de proceso de semiconductores Equipo original Fabricantes: …