LOOMIS LCD1 Scriber

Anno:

Dimensione della cialda 3 cm

Macchina per wafer Ebara FREX 300

Anno: 2002

Lo strumento è completamente operativo, eseguendo Cu su entrambi i lati. L'attrezzatura ausiliaria è un armadio elettrico e due refrigeratori (uno per lato). I sistemi di erogazione di prodotti chimici supportano l'intera flotta, quindi non sarebbe inclusa alcuna attrezzatura per l'erogazione di prodotti chimici. Scaviamo da anelli di liquami sotto il pavimento e distribuiamo prodotti chimici diretti da un VMB …

Macchina per wafer Alessi REL-4100

Anno:

Microscopio Mitutoyo Laser YAG pulsato 1064nm Prober manuale Alessi 4100 con mandrino a vuoto da 150 mm e obiettivo APO 10X

Karl Suss RA120M Scriba automatico

Anno:

L'RA 120M permette di incidere wafer fino a 4 pollici (102 mm) di diametro e substrati grandi fino a 4 pollici (102 mm) quadrati. Due assi di scribing indipendenti sono programmabili separatamente per garantire la massima versatilità. I parametri possono essere inseriti in micron o mil. (La modalità pollici o metrica viene selezionata prima dell'accensione posizionando un ponticello interno). Gli …

Macchina per wafer Asyst Versaport 2200 STD

Anno: 2000

Indicizzatore Asyst Versaport 2200 ricondizionato Può essere utilizzato sia per cassette per maschere che per cassette per wafer. Ci sono 2 chip EPROM con questo indicizzatore. La prima EPROM ha il firmware per le cassette delle maschere (attualmente installato) La 2a EPROM ha il firmware per le cassette wafer (di riserva) Configurazione: Cassetta da 8 pollici Piastra posteriore imbullonata Supporto …

Macchina per wafer Lasertec M-350H

Anno: 2005

Sistema di ispezione/revisione wafer Lasertec M-350H 300 mm Annata:2005 Come è

Taglierina per wafer K&S 7100AD

Anno:

Ultima manutenzione preventiva eseguita il 17 dicembre 2020 Taglierina di precisione per wafer di silicio e substrati sottili fino a 200 mm di diametro Accetta lame da 2"/3" con mozzo o anulari Motore DC brushless da 60.000 giri/min con cuscinetto d'aria da 1,2Kw Risoluzione 0,2u velocità di avanzamento fino a 350 mm/s sensore di altezza della lama a sfioramento Sistema …

Macchina per wafer ENI RPDG-50E

Anno: 2011

Dimensione della cialda 20.32 cm

22.500 €

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CN Cina ( rep. Popolare di )


Macchina per wafer ENI RPG-50A

Anno: 1997

Dimensione della cialda 20.32 cm

22.500 €

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SSEC 3302 Macchina per la rimozione delle resistenze e la pulizia dei wafer

Anno:

SSEC CLEAN 3300 MODELLO: M3302 208 VAC, 3PH, 60Hz, 30 AMP Data di produzione: 30.8.2005 Codice AC 330i1712 1) il wafer viene immerso nella miscela di solventi (la cosiddetta pulizia per immersione) 2) si procede alla lavorazione con solventi spray (il cosiddetto Fan Spray Processing) e all'essiccazione con azoto. L'unità dispone del cosiddetto sistema dry-in/dry-out (wafer asciutti in entrata e …

Despatch Forno per la polimerizzazione dei wafer tipo D40B

Anno:

Despatch Forno per la polimerizzazione dei wafer tipo D40B Condizioni: Usato Marca: Despatch Modello: Tipo D40B Include: (1) Forno di polimerizzazione per wafer Despatch Tipo D40B Forno di polimerizzazione per wafer Despatch in vendita (Usato) TEMPERATURA MASSIMA DI ESERCIZIO 280 ͦ C Tipo di riscaldatore: Elettrico LEYBOLD TRIVAC Vuoto Tipo D40B FABR. In vendita: Forno di polimerizzazione per wafer Despatch …

Etcher per wafer a fotoresistenza SSEC Evergreen Serie II

Anno:

Etcher per wafer a fotoresistenza SSEC Evergreen Serie II Condizioni: Usato Marchio: SSEC Modello: Evergreen Serie II Include: (1) Etcher per wafer fotoresist SSEC Evergreen Serie II usato Stoccaggio prodotti chimici Armadio di trasferimento wafer Armadio di trasferimento Acciaio inossidabile Refrigeratori a ricircolo X 2 Pompa/Raffreddatore Modello # LG.HPC Solid State Equipment (SSEC) Evergreen Series II Model 203 Photoresist Wafer …

Sistema di sviluppo a doppio binario SVG

Anno:

Sistema di sviluppo a doppio binario SVG Condizioni: Usato - Predisposto per wafer fino a 6 pollici - Controllore Modello #8132 CTD/ 8136 HPO Vendiamo "come è, dove è". Non siamo in grado di testare tutte le apparecchiature. Questo sistema è stato disinstallato in condizioni operative e funzionanti.

Logitech 3000 Wafer Bonder

Anno:

Dimensione della cialda 10.16 cm

Allineatore Karl Suss Ma 4 Mask

Anno:

Dimensione della cialda 10.16 cm

Allineatore Oriel Mask

Anno:

Dimensione della cialda 22.86 cm

Wentworth 908 Prober

Anno:

Dimensione della cialda 15.24 cm

ALLINEATORE PER MASCHERE KARL SUSS MA56

Anno:

ALLINEATORE PER MASCHERE KARL SUSS MA56 Descrizione: Karl Suss MA 56 è un sistema di allineamento ed esposizione di maschere con capacità di produzione altamente ecnomiche per wafer fino a 125 mm. È di facile manutenzione e può essere facilmente adattato ai requisiti di processo specifici.

Sistema di sonda semiautomatico Karl Suss PA-200

Anno:

Sistema di sonda semiautomatico Karl Suss PA-200 con testa e braccio XYZ della sonda Karl Suss PH250HF e altri accessori Karl Suss PA 200 con tavolo antivibrante che include 3 unità di testa della sonda manuale ad alta frequenza Karl Suss (PH250HF) con braccio della sonda e testa della sonda più 1 unità di ricambio Micro posizionatori ottici XYZ Edmund. …

Macchina per wafer MKS Paragon AX7710 LAM-03 RPS

Anno: 2019

Dimensione della cialda 30.48 cm

40.000 €

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