21 - 40 di 95 risultati
Anno:
Elettrodo inferiore LAM Condizione: ristrutturato PN: 718-092326-082-1 LA8PPF Per wafer piatto (non notch)Anno:
Microscopio di fase Olympus CX21 Condizioni pari al nuovo 10 oculari Obiettivi 4x, 10x, 40xAnno:
Set controller valvola a farfalla Millipore ACX3200 ACX3201 Incluso in questo set: MilliporeACX3200 Valvola a saracinesca a farfalla Millipore MDV018 Il set controller per valvola a farfalla Millipore ACX3200 include il controller ACX3200 e la valvola a saracinesca a farfalla MDV018. Questo set è progettato per il controllo preciso del flusso del fluido in laboratorio o in ambienti industriali. Il …Anno:
L'EDB65 è un bonder manuale affidabile e facile da usare che garantisce un'elevata precisione di posizionamento per tutte le applicazioni di laboratorio, prototipi, preproduzione e lavori di produzione limitata. Può essere riconfigurato rapidamente per accettare tutti i comuni pacchetti di semiconduttori e funziona in modalità manuale fino a 300 unità all'ora. MANIPOLAZIONE E POSIZIONAMENTO DELLO STAMPO: Il carico della testa …Anno:
Macchina per l'inserimento assiale DYNAPERT Emhart 200 220 V 50 HzAnno:
DAGE MICROTESTER Tester di trazione/taglio di fili metallici Modello BT22Anno:
L'EDB65 è un bonder manuale affidabile e facile da usare che garantisce un'elevata precisione di posizionamento per tutte le applicazioni di laboratorio, prototipi, preproduzione e lavori di produzione limitata. Può essere riconfigurato rapidamente per accettare tutti i comuni pacchetti di semiconduttori e funziona in modalità manuale fino a 300 unità all'ora. MANIPOLAZIONE E POSIZIONAMENTO DELLO STAMPO: Il carico della testa …Anno:
Il misuratore dell’angolo di contatto fornisce informazioni sull’energia di adesione della superficie solida e sulla tensione superficiale della goccia. È stato ampiamente accettato per l’analisi della superficie del materiale relativa alla bagnatura, all’adesione e all’assorbimento. Viene utilizzato per rilevare la presenza di film, rivestimenti o contaminanti con un’energia superficiale diversa da quella del substrato sottostante. È utile nell’industria dei semiconduttori, …Anno:
MACCHINE PER TERMOINCOLLAGGIO (solo ricambi) Legatore di filiAnno: 1994
Gamma di dimensioni del filo, a trefoli 0,14 - 6 mm² (AWG 25 - 10) Gamma di dimensioni del filo, pieno 0,14 - 2,0 mm² (AWG 25 - 14) Diametro esterno del filo max. 6 mm Lunghezza di estrazione max. 1. lato 30 mm Lunghezza di estrazione max. 2. lato 100 mm Lunghezza totale programmabile 10 mm - 100 m …Anno: 1996
Modello: PlasmaLab 80 Plus, PECVD Plasmalab 80+ DPCVD Categoria: PECVD, Apparecchiature per processi di semiconduttori Produttore di apparecchiature originali: Oxford, PlasmaLab Condizioni: Completamente rimesso a nuovo e testato dal venditore Posizione: U.S.A. Installazione e formazione: Disponibile a pagamento.Anno:
Modello: 600 SemiAuto - Sistema al plasma RF semiautomatico - Può trattare wafer fino a 200 mm - Utilizzato per lo stripping del fotoresist e la pulizia della superficie, nonché per l'incisione del silicio e dei suoi composti - Dimensioni della camera: 245 mm di diametro, 380 mm di profondità - Materiale della camera: ceramica - Generatore RF ENI: 0-600 …Anno: 1995
Modello: JETFIRST 100 -RTP Categoria: RTP - Trattamento termico rapido Produttore di apparecchiature originali: Jipelec Condizione:Completamente ricondizionato e testato dal venditore Posizione: U.S.A. Installazione e formazione: Disponibile a pagamento.Anno: 1987
Modello: Serie Branson/IPC 3000,2000,4000 Categoria: Plasma Asher, Apparecchiature per processi a semiconduttore Produttore di apparecchiature originali: Branson/IPC Condizioni: Completamente ricondizionato e testato dal venditore Posizione: U.S.A. Installazione e formazione: Disponibile a pagamento.Anno: 2007
Modello: SISTEMA DI DEPOSIZIONE ATOMICA DI STRATO SAVANNAH S200-ALD Categoria: SISTEMA DI DEPOSIZIONE A STRATO ATOMICO, apparecchiature per processi a semiconduttore Produttore di apparecchiature originali: SAVANNAH,CAMBRIDGE NANOTECH , Veeco Cambridge Nanotech Ultratech Condizioni: Completo, funzionante e testato dal venditore Posizione: U.S.A. Installazione e formazione: Disponibile a pagamento.Anno: 2000
AnnealSys AS-One Rapid Thermal Processor. l'unità è usata. poche ore, condizioni pulite e super. 4 pollici. Forni per l'elaborazione termica rapida per lo sviluppo di processi di ricottura termica rapida e CVD. Dimensioni dei wafer: Fino a 4 pollici. Modello: AnnealSys AS-One Categoria: RTP - Trattamento termico rapido Produttore di apparecchiature originali: AnnealSys Condizione:Completamente rimesso a nuovo e testato dal …Anno:
Alimentatore RF Advanced Energy RFX600 13,56mhz 1 ripiano a terra e 1 ripiano alimentato Pompa per vuoto LeyboldAnno:
Controllato da PLC, offre una lettura in tempo reale dei parametri operativi del sistema e un'azione correttiva in caso di interruzione. Plasma attivo per la pulizia di routine delle superfici dei campioni Plasma RIE per la pulizia aggressiva di campioni non sensibili all'ESD Plasma a valle, senza elettroni, per la pulizia di componenti elettronici sensibili. Il pulitore al plasma Glen …