Optosistemas Ardis 100

Descripción del anuncio

Sistema de diamante CVD mejorado con plasma MW con reactor de 2 pulgadas para la deposición de películas de diamante policristalino, monocristalino y nanocristalino de alta pureza, así como nanotubos de carbono a partir de una mezcla de gases (4 canales). Se utiliza para la fabricación de sondas AFM de diamante (consulte scdprobes.com), no se utiliza dopaje con boro. Potencia: hasta 6 kW a 2,45 GHz, caudal de gas: 0,1 a 60 L/h, principales mezclas: ?2/??4, ?2/??4/?2, Ar/H2/CH4, dopaje: N2 (centros de color NV). Temperatura de oblea controlada hasta 1200 grados. Velocidad de depósito: hasta 6 um/hr. Control visual, refrigeración por agua, control automatizado.

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