Optosistemi Ardis 100

Descrizione dell'annuncio

Sistema diamantato CVD potenziato al plasma MW con reattore da 2 pollici per la deposizione di film di diamante poli, mono e nanocristalli di elevata purezza, nonché nanotubi di carbonio da miscele di gas (4 canali). Utilizzato per la produzione di sonde AFM diamantate (vedi scdprobes.com), non viene utilizzato doping con boro. Potenza: fino a 6 kW a 2,45 GHz, flusso di gas: da 0,1 a 60 L/h, miscele principali: ?2/??4, ?2/??4/?2, Ar/H2/CH4, doping: N2 (centri colore NV). Temperatura controllata del wafer fino a 1200 gradi. Velocità di deposito: fino a 6 um/ora. Controllo visivo, raffreddamento ad acqua, controllo automatizzato.

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